[发明专利]光刻胶工艺工具及其清洗用的杯状清洗盘和方法有效

专利信息
申请号: 201611222845.0 申请日: 2016-12-27
公开(公告)号: CN106997154B 公开(公告)日: 2021-08-03
发明(设计)人: 邓华光;林裕翔;方天正 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 代理人: 章社杲;李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光刻 工艺 工具 及其 清洗 方法
【权利要求书】:

1.一种用于清洗光刻胶工艺工具的杯状清洗盘,所述杯状清洗盘包括:

上托板,布置在下托板上方以限定所述上托板和所述下托板之间的空腔,其中,所述下托板包括与所述空腔流体连通且沿着所述下托板的周边布置的周边开口;以及

多个垫片,布置在所述上托板和所述下托板之间以将所述上托板和所述下托板间隔开且限定所述上托板和所述下托板之间的狭缝,其中,所述狭缝与所述空腔流体连通,

其中,所述多个垫片沿着所述杯状清洗盘的周边横向地间隔开,并且所述狭缝从所述多个垫片的一个连续地延伸至与所述多个垫片的一个相邻的另一个。

2.根据权利要求1所述的杯状清洗盘,其中,所述狭缝横向布置在所述垫片之间且垂直地布置在所述上托板和所述下托板之间。

3.根据权利要求1所述的杯状清洗盘,其中,所述垫片是聚四氟乙烯。

4.根据权利要求1所述的杯状清洗盘,其中,所述狭缝和所述垫片沿着所述上托板和所述下托板的周边布置。

5.根据权利要求1所述的杯状清洗盘,其中,所述上托板和所述下托板的外表面与所述垫片的外表面共平面。

6.根据权利要求1所述的杯状清洗盘,其中,所述多个垫片包括围绕所述上托板和所述下托板的周边横向均匀间隔开的四个垫片。

7.根据权利要求1所述的杯状清洗盘,其中,所述上托板和所述下托板共享圆形覆盖区。

8.根据权利要求1所述的杯状清洗盘,其中,所述下托板还包括布置在所述下托板的底部上的、横向布置在所述下托板的中心轴和所述周边开口之间的下开口,并且其中,所述下开口与所述空腔流体连通。

9.根据权利要求8所述的杯状清洗盘,其中,所述下开口是环形形状。

10.根据权利要求1所述的杯状清洗盘,其中,所述空腔是环形形状。

11.一种用于清洗光刻胶工艺工具的方法,所述方法包括:

将杯状清洗盘放置在光刻胶工艺工具的腔室中,其中,所述杯状清洗盘包括布置在上托板和下托板之间以限定所述上托板和所述下托板之间的多个狭缝并且间隔开的垫片;

旋转所述杯状清洗盘同时从所述杯状清洗盘下方将溶剂喷射至所述杯状清洗盘的空腔中,其中,所述空腔被限定在所述上托板和所述下托板之间且与所述狭缝流体连通;以及

使所述溶剂通过所述空腔移动至所述狭缝以将所述溶剂向着所述腔室的侧壁喷出所述狭缝,

其中,所述下托板包括所述狭缝下面的周边开口,并且其中,所述方法还包括:

移动所述溶剂通过所述空腔至所述周边开口和所述狭缝以同时将所述溶剂喷出所述狭缝和所述周边开口,

其中,移动所述溶剂包括:

将所述溶剂向着所述腔室的外侧壁横向喷出所述狭缝而不受所述腔室的内侧壁的阻碍,同时将所述溶剂向着所述外侧壁横向喷出所述周边开口而受到所述内侧壁的阻碍。

12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述狭缝横向布置在所述垫片之间且垂直地布置在所述上托板和所述下托板之间。

13.根据权利要求12所述的方法,其中,所述狭缝和所述垫片沿着所述上托板和所述下托板的周边布置。

14.根据权利要求11所述的方法,其中,移动所述溶剂包括凭借离心力加速所述溶剂至所述狭缝。

15.根据权利要求11所述的方法,还包括:

喷射所述溶剂通过布置在所述下托板的底部上的所述下托板的下开口至所述空腔中。

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