[发明专利]一种InGaN基黄色发光二极管结构有效

专利信息
申请号: 201611222884.0 申请日: 2016-12-27
公开(公告)号: CN106711300B 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 张建立;徐龙权;丁杰;莫春兰;王小兰;刘军林;江风益 申请(专利权)人: 南昌大学;南昌硅基半导体科技有限公司
主分类号: H01L33/12 分类号: H01L33/12;H01L33/24;H01L33/32
代理公司: 江西省专利事务所 36100 代理人: 张文
地址: 330047 *** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 黄光 多量子阱层 黄色发光二极管 单层结构 角锥结构 衬底 多量子阱发光层 空穴 发光效率 注入效率 缓冲层 张应力 弛豫 生长
【说明书】:

发明公开了一种InGaN基黄色发光二极管结构,它包括衬底,在衬底上由下至上依次生长有缓冲层、n型层、准备层、黄光多量子阱层和p型层,其特征在于:准备层和黄光多量子阱层位置包含有一定数量和大小的倒六角锥结构,准备层是In组分较高的InxGa(1‑x)N厚单层结构,InxGa(1‑x)N层厚度为50‑200nm。In组分较高的InxGa(1‑x)N厚单层结构准备层可显著弛豫了黄光多量子阱层所受的张应力,获得高质量的黄光多量子阱发光层,同时位于准备层及黄光多量子阱层区域的倒六角锥结构可大幅提升p型载流子(空穴)的注入效率,从而提升黄色发光二极管的发光效率。

技术领域

本发明涉及半导体照明技术领域,尤其是涉及一种InGaN基黄色发光二极管结构。

背景技术

发光二极管(LED)以其节能环保、可靠性高等显著特点得到人们广泛的关注和研究。在能源危机和环境危机日益加重的今天,众多国家和地区将LED照明技术列为国家发展战略。经过二十多年的研究和努力,LED外延生长技术、LED芯片制造技术以及LED封装技术均得到长足进步,使得LED被广泛用于显示屏、指示灯、景观照明、汽车灯、通用照明等很多领域。

目前,照明用白光LED通常采用“蓝光LED+荧光粉”的方式制成,这种形式的白光LED存在以下缺点:1、显色指数、色温和发光效率之间难以协调;2、荧光粉有限的转换效率损失了部分LED的发光效率。为此,人们提出了采用多色LED合成白光的技术方案,如将“红+黄+绿+青+蓝”五基色LED芯片封装在一起制成白光LED。这种白光LED将可望获得低色温、高显色指数、高光效的白光光源。然而,目前蓝光、红光以及青光都具有较高的电光转换效率,而绿光和黄光的电光转换效率不高,尤其是黄光。因此,用现有的五基色LED合成白光可以获得高显色指数、低色温的白光,但光效不高。InGaN和AlGaInP材料体系均可以获得黄光LED,AlGaInP材料体系随着波长从红光转变为黄光,能带由直接带隙转变为间接带隙,发光效率大幅下降,从物理上存在提升黄光光效的瓶颈。而InGaN材料体系则没有物理瓶颈。

发明内容

本发明的目的在于提供一种可使黄光多量子阱层所受的张应力得到显著弛豫、从而提升黄光内量子效率、获得高光效的InGaN基黄色发光二极管结构。

本发明的目的是这样实现的:

一种InGaN基黄色发光二极管结构,包括衬底,在衬底上设有缓冲层,在缓冲层上依次设有n型层、准备层、黄光多量子阱层和p型层,特征是:在准备层和黄光多量子阱层的中间设有向上开口的倒六角锥结构;所述准备层为InxGa(1-x)N单层结构,其中0.03≤x≤0.15,InxGa(1-x)N层的厚度为hx,50nm≤hx≤200nm;黄光多量子阱层为InzGa(1-z)N/InwGa(1-w)N周期结构,其中0.2≤z≤0.4,0≤w≤0.15;黄光多量子阱层的周期数为m,InzGa(1-z)N层的厚度为hz,InwGa(1-w)N层的厚度为hw,其中3≤m≤10,2nm≤hz≤3nm,7nm≤hw≤20nm。

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