[发明专利]UV冷转印双面镭射工艺在审

专利信息
申请号: 201611231103.4 申请日: 2016-12-28
公开(公告)号: CN106626853A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 田宜谨;李学迪;张磊;姜思泉;李涛;张国红 申请(专利权)人: 山东泰宝包装制品有限公司
主分类号: B41M5/382 分类号: B41M5/382;B41M3/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 256407 *** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: uv 冷转印 双面 镭射 工艺
【权利要求书】:

1.一种UV冷转印双面镭射工艺,其特征在于步骤如下:

1)PET薄膜涂布:采用网纹涂布辊来进行上胶涂布,在PET薄膜的一面涂布PET镭射模压涂层,其涂布均匀,涂布量控制在1.0-1.3g/m2,涂布温度90-150℃,涂布干燥时间10-15s;

2)模压:对涂布层进行镭射模压,模压温度为130-180℃,模压速度为30-60m/min;

3)复卷:对模压完成的产品进行复卷,释放在模压过程中薄膜携带的热量和薄膜受热变形造成的张力不均匀,防止薄膜变形,保护镭射图案不受损伤;

4)UV镭射转移:在PET薄膜的另一面进行UV镭射转移生产,采用BOPP镭射转移薄膜作为镭射图案模板,涂布镭射光油,然后PET薄膜上光油面与BOPP镭射转移膜镭射信息面复合在一起,经过UV干燥装置进行干燥处理,UV灯功率:10-15kw,车速20-40米/分钟,干燥后两层薄膜剥离开来,BOPP镭射转移膜表面的镭射信息转移到PET薄膜UV光油层上,形成PET正反双面镭射效果;

5)镭射层保护:PET薄膜上的涂布模压层进行真空镀铝加工,形成镀铝层。

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