[发明专利]具有吸尘功能的晶片研磨设备

说明书

本专利申请涉及光电子信息技术领域，公开了一种具有吸尘功能的晶片研磨设备，包括基台、晶片托台、工作台、研磨机构和加压机构，所述工作台内部设置有第一驱动机构，所述第一驱动机构包括电机和传动结构，所述工作台表面设置有连通工作台内部的第一通孔，传动机构的转轴穿过通孔用于支撑所述晶片托台，在所述晶片托台和所述从动齿轮之间的转轴上设置有扇叶，所述工作台下方连接有油箱，所述工作台底部设置有连通所述油箱的第二通孔，所述油箱连接有输油管，所述输油管的出油口设置在第一通孔处。本专利申请意在提供一种具有吸尘功能的晶片研磨设备，在研磨晶片的过程中，不仅能吸收研磨产生的粉屑，还能对设备起到散热和润滑作用。

技术领域

本发明涉及光电子信息技术领域，具体涉及一种具有吸尘功能的晶片研磨设备。

背景技术

传统晶片研磨装置加工的晶片普遍存在晶片边缘容易塌边的问题。造成这个问题的原因是规则的研磨路径造成了边缘磨损大于内部而容易形成塌边，原有的晶片研磨装置得到的成品的合格率低，加工时间长造成加工效率低和成本高，而且表面粗糙度、平整度、晶片厚度公差等指标都不能达到加工图形化衬底晶片的要求。

随着光电技术的飞速发展，光电产品需要大量的晶片，为了满足光学器件发展的需求，市面出现了多种工作效率高、废品率低、产品平滑度高、成本低的研磨装置，但是这些研磨装置在加工过程中，会产生很多粉屑，而粉屑会到处飞扬，不易打扫，且研磨所用的动力设备长期运转容易生锈、老化，需要定期为动力设备进行润滑维护和清洁，非常麻烦。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有吸尘功能的晶片研磨设备，在研磨晶片的过程中，不仅能吸收研磨产生的粉屑，还能对设备起到散热和润滑作用。

为达到上述目的，本发明的基础方案如下：

具有吸尘功能的晶片研磨设备，包括用于支撑研磨设备的基台、用于固定晶片的晶片托台、用于支撑所述晶片托台的工作台、位于所述工作台上方的研磨机构和位于所述研磨机构上方的加压机构，所述工作台内部设置有空腔，所述研磨机构包括研磨头、固定所述研磨头的连接件和设置在研磨头上方的驱动电机；所述工作台内部设置有第一驱动机构，所述第一驱动机构包括电机和传动结构，所述传动结构包括输出齿轮、调速齿轮和从动齿轮，所述输出齿轮与所述电机的输出轴连接，所述调速齿轮与所述输出齿轮啮合，所述调速齿轮与所述从动齿轮同轴连接，所述调速齿轮与所述从动齿轮均设置在转轴上，所述工作台表面设置有连通工作台内部的第一通孔，所述转轴穿过通孔用于支撑所述晶片托台，在所述晶片托台和所述从动齿轮之间的转轴上设置有扇叶，所述工作台下方连接有油箱，所述工作台底部设置有连通所述油箱的第二通孔，所述油箱连接有输油管，所述输油管的出油口设置在第一通孔处。

本发明基础方案的工作原理：加工时，将晶片放置在晶片托台上，启动研磨头上方的驱动电机和第一驱动机构的电机工作，研磨头被驱动电机带动作旋转运动，第一驱动机构的电机通过调速齿轮实现减速，再通过转轴带动从动齿轮转动，从而带动安装在转轴上的晶片托台旋转，所述晶片托台的转向与所述研磨头的转向相反，此时加压机构驱使研磨头以一定压力压住晶片托台上的晶片，以实现研磨头对晶片的研磨。

在研磨过程中，所述设置在转轴上的扇叶跟随转轴的转动而转动，扇叶带动工作台内部的空气加速流动，在第一通孔处形成负压，研磨产生的晶片粉屑被吸入所述工作台内部，避免了加工过程中的粉屑飞扬、加工完不易清洁的问题；同时，工作台内部产生负压，使得工作台内部压强变小，从而使得油管与工作台内部形成压强差，将油箱内的机油因为压强的作用通过输油管被吸至第一通孔处，实现自动上油，机油从第一通孔重新流入工作台内部，对第一驱动机构进行润滑和散热，不用额外定期进行润滑和维护，然后机油再从第二通孔流回油箱，整个过程能实现机油的自动循环利用，即方便，又有利于节省能源。

本发明基础方案的有益效果：利用该设备的驱动机构，不仅能实现晶片的研磨，而且还能在研磨的同时吸收研磨产生的粉屑，并且能使机油自动循环以实现润滑设备和散热的作用。