[发明专利]一种高储能密度玻璃陶瓷薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种玻璃陶瓷薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

(1)选择原料，配料，研磨，混合，所述原料为PbO，SrCO₃，Na₂CO₃，Nb₂O₅和SiO₂；将所述原料加热熔融，在模具中成型为片状物；

(2)将步骤(1)制备的片状物进行可控结晶热处理，得到以铌酸盐陶瓷相为主晶相的玻璃陶瓷片，通过机械加工得到圆片靶材；所述可控结晶热处理的工艺为：在600℃保温3h,再升温到900-1000℃，保温3h；

(3)清洗重掺硅衬底，去除重掺硅表面的氧化层，得到基片，将所述基片和步骤(2)得到的靶材分别进行沉积；所述沉积的工艺参数为真空度小于3.5×10^-4pa，通入0-20pa的O₂，沉积时间为0.5-2h；

(4)通过光刻工艺制备规则图案，使用磁控溅射在靶材表面镀金3min，形成顶电极，在基片底部镀铝15min，使铝与重掺硅基片形成欧姆接触作为底电极，形成MIM结构的电容；所述顶电极直径50-500um。

2.根据权利要求1所述方法，其特征在于，步骤(1)中所述原料为分析纯粉末原料，所述原料的摩尔比为Pb²⁺：Sr²⁺：Na⁺：Nb⁵⁺：Si⁴⁺＝1:1.5-2：2-6：5-10:6-8。

3.根据权利要求1所述方法，其特征在于，步骤(1)中所述研磨使用直径5-15mm的玛瑙球作为研磨介质。

4.根据权利要求1所述方法，其特征在于，步骤(2)中所述圆片靶材的直径50-55mm，厚度2-5mm。