[发明专利]一种利用糖作掩模的微纳加工方法

权利要求书

1.一种利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，包括步骤：

S10、提供熔融状态的糖或糖溶液；

S20、将熔融状态的糖或糖溶液施加到待加工的样品表面，形成掩模图案；

S30、对形成掩模图案后的样品进行微纳加工；

S40、将微纳加工后的样品放入糖溶性液体中，以去除样品表面的糖。

2.根据权利要求1所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，所述糖包括单一种类的糖、糖的混合物或含糖物质。

3.根据权利要求1或2所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，步骤S10中，提供熔融状态的糖包括将糖加热至温度超过所述糖的熔点，并保持温度恒定；提供糖溶液包括将糖与糖溶性液体混合后配置成糖溶液。

4.根据权利要求1-3之一所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，步骤S20中，将熔融状态的糖或糖溶液施加到样品表面形成掩模图案的方式包括打印、滴、甩、喷、涂、点、射、压、写、粘和/或沉积。

5.根据权利要求1-4之一所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，步骤S20中，当采用熔融状态的糖时，将待加工的样品加热至温度接近或等于或高于所述糖的熔点并保持温度恒定，然后再施加糖，施加完毕后，将待加工的样品冷却至室温，得到掩模图案。

6.根据权利要求1-4之一所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，步骤S20中，当采用糖溶液时，将糖溶液施加到待加工的样品表面，然后蒸发掉样品表面上的糖溶液中的溶剂，得到掩模图案。

7.根据权利要求1-6之一所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，所述微纳加工包括刻蚀、沉积、和/或改性。

8.根据权利要求1-7之一所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，步骤S40中，所述糖溶性液体为水、乙醇、甲醇或乙酸，或者为乙醇、甲醇或乙酸的水溶液。

9.根据权利要求1-8之一所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，步骤S40之后，还包括步骤：

S50、将样品从糖溶性液体中取出，进行干燥。

10.根据权利要求9所述的利用糖作掩模的微纳加工方法，其特征在于，步骤S50中，进行干燥的方式包括将样品放置在加热装置上进行烘干。