[发明专利]电光器件在审
申请号: | 201611248546.4 | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN106784073A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 林岳明 | 申请(专利权)人: | 苏州爱彼光电材料有限公司 |
主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/02 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 唐清凯 |
地址: | 215215 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电光 器件 | ||
1.一种电光器件,其特征在于,包括:
复合衬底,包括硅衬底层以及键合在所述硅衬底层上的蓝宝石衬底层;
开关结构层,由生长在所述蓝宝石衬底层上的氮化镓晶体形成;
以及器件主体结构,包括键合于所述硅衬底层上的电光晶体层。
2.根据权利要求1所述的电光器件,其特征在于,所述电光晶体层由钽酸锂晶体制成。
3.根据权利要求1所述的电光器件,其特征在于,所述电光晶体层由铌酸锂晶体制成。
4.根据权利要求1所述的电光器件,其特征在于,所述复合衬底还包括生长在所述蓝宝石衬底层上的硅膜;所述蓝宝石衬底层通过所述硅膜与所述硅衬底层键合。
5.根据权利要求4所述的电光器件,其特征在于,所述硅膜的厚度为1~5μm。
6.根据权利要求1所述的电光器件,其特征在于,所述蓝宝石衬底层的厚度为20μm。
7.根据权利要求1所述的电光器件,其特征在于,所述硅衬底层的厚度为600~1500μm。
8.根据权利要求1所述的电光器件,其特征在于,所述开关结构层包括氮化镓基场效应管。
9.根据权利要求8所述的电光器件,其特征在于,所述氮化镓基场效应管为氮化镓基高电子迁移率晶体管。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的