[发明专利]电感耦合等离子体处理装置与等离子体产生装置有效
| 申请号： | 201611254290.8 | 申请日： | 2016-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN108271307B | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 倪图强;庞晓贝;饭塚浩 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 潘朱慧 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 匹配网络 等离子体产生装置 电感耦合等离子体 处理装置 输出端 等离子体处理装置 电感 功率分配器 射频功率源 输入端连接 功率分配 绝缘窗 输入端 匹配 | ||
1.一种电感耦合等离子体处理装置，包括：
反应腔，其顶部设置有绝缘窗；
线圈，设置于绝缘窗的上方，包括第一线圈与第二线圈；
射频功率源，其输入端连接有一匹配网络；
功率分配器，其输入端与所述匹配网络连接，其至少包括两个输出端，该两个输出端分别连接第一线圈、第二线圈；其特征在于，所述第一线圈环绕设置于所述第二线圈的外围，所述第二线圈的线圈匝数大于所述第一线圈的线圈匝数；
所述第一线圈与第二线圈之间电感值的比值在0.90到1.12之间。
2.如权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，通过设置第一、二线圈的下列参数中的一种或多种来实现所述比值：
线圈直径；
线圈匝数；
组成线圈的导线的直径；
组成线圈的导线的材料。
3.如权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，所述线圈还包括第三线圈，所述第三线圈连接于功率分配器的另一输出端；
所述第三线圈与所述第二线圈之间电感值的比值在0.90到1.12之间。
4.如权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置，其特征在于，所述第一线圈与所述第二线圈为相同类型或不同类型。
5.如权利要求1所述的电感耦合等离子体处理装置，还包括偏置功率源，用于控制等离子体的方向。
6.一种用于电感耦合等离子体处理装置的等离子体产生装置，包括：射频功率源，其输入端连接有一匹配网络；
第一线圈与第二线圈；
功率分配器，其输入端与所述匹配网络连接，所述功率分配器至少包括两个输出端，该两个输出端分别连接第一线圈、第二线圈；
所述第二线圈环绕设置于所述第一线圈的外围，所述第一线圈的线圈匝数大于所述第二线圈的线圈匝数；
其特征在于，所述第一线圈与第二线圈之间电感值的比值在0.90到1.12之间。
7.如权利要求6所述的等离子体产生装置，其特征在于，通过设置第一、二线圈的下列参数中的一种或多种来实现所述比值：
线圈直径；
线圈匝数；
组成线圈的导线的直径；
组成线圈的导线的材料。
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