[发明专利]定位数字水印的方法及装置有效

专利信息
申请号: 201611254459.X 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN108269220B 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 陈良生;李天白 申请(专利权)人: 北京思源理想控股集团有限公司
主分类号: G06T1/00 分类号: G06T1/00;G06T7/73
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 江崇玉
地址: 102300 北京市门头*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 定位 数字 水印 方法 装置
【说明书】:

发明公开了一种定位数字水印的方法及装置,属于图像处理技术领域。所述方法包括:获取n张图像;对于n张图像中的目标图像,获取目标图像中的每一个像素点对应的相似度;根据目标图像中的每一个像素点对应的相似度,确定目标图像中的候选水印像素点;根据候选水印像素点在目标图像中的分布特征,确定目标图像中的目标处理区域,目标处理区域中的候选水印像素点形成候选水印区域;对候选水印区域进行形态学处理,得到处理后的候选水印区域;根据处理后的候选水印区域,确定目标图像中的水印像素点。本发明解决了现有技术中水印定位不够准确且效率低的问题;实现了自动化地定位水印,提高了水印定位的准确性和效率。

技术领域

本发明涉及图像处理技术领域,特别涉及一种定位数字水印的方法及装置。

背景技术

数字水印技术是将标识信息嵌入多媒体信息中,被广泛应用于对多媒体信息的保护和认证。在用户采用图像作为证据的情况下,存在去除图像中的数字水印(简称为“水印”)的需求。在去除水印之前,需要对水印进行定位。

现有技术中,定位水印的方式通常是由用户根据经验,在图像中人工标注水印位置。

上述基于人工经验的水印定位方法由于仅根据人工经验得到,导致水印定位不够准确。而且,人工标注水印位置会消耗较多的时间。

发明内容

为了解决现有技术中采用基于人工经验的水印定位方法,导致水印定位不够准确且效率低的问题,本发明实施例提供了一种定位数字水印的方法及装置。所述技术方案如下:

第一方面,提供了一种定位数字水印的方法,所述方法包括:

获取n张图像;其中,所述n张图像具有相同的水印,且所述水印在所述n张图像中的位置相同,所述n张图像的分辨率相同;

对于所述n张图像中的目标图像,获取所述目标图像中的每一个像素点对应的相似度;其中,所述目标图像中第i行第j列的像素点对应的相似度是指所述目标图像中第i行第j列的像素点与其它n-1张图像中第i行第j列的像素点的相似度;

根据所述目标图像中的每一个像素点对应的相似度,确定所述目标图像中的候选水印像素点;其中,所述候选水印像素点是指相似度大于第一阈值的像素点;

根据所述候选水印像素点在所述目标图像中的分布特征,确定所述目标图像中的目标处理区域,所述目标处理区域中的候选水印像素点形成候选水印区域;

对所述候选水印区域进行形态学处理,得到处理后的候选水印区域;

根据所述处理后的候选水印区域,确定所述目标图像中的水印像素点。

可选地,所述根据所述处理后的候选水印区域,确定所述目标图像中的水印像素点,包括:

根据所述处理后的候选水印区域确定第一待处理区域;其中,所述第一待处理区域包括:所述处理后的候选水印区域中的每一个像素点,以及,所述处理后的候选水印区域中的每一个像素点的第一邻域像素点,一个像素点的第一邻域像素点是指以所述像素点为中心的第一窗口中除所述像素点之外的其它像素点,所述第一窗口的长为a,所述第一窗口的宽为b,且a、b均大于或等于3;

获取所述第一待处理区域中的每一个像素点对应的相似度;

根据所述第一待处理区域中的每一个像素点对应的相似度,确定绝对水印区域;其中,所述绝对水印区域包括相似度大于第二阈值的像素点,所述第二阈值大于所述第一阈值;

根据所述绝对水印区域确定第二待处理区域;其中,所述第二待处理区域包括:所述绝对水印区域中的每一个像素点,以及,所述绝对水印区域中的每一个像素点的第二邻域像素点,一个像素点的第二邻域像素点是指以所述像素点为中心的第二窗口中除所述像素点之外的其它像素点,所述第二窗口的长为c,所述第二窗口的宽为d,且c、d均大于或等于3;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京思源理想控股集团有限公司,未经北京思源理想控股集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611254459.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top