[发明专利]一种显示面板、装置以及制作方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

基板，包括显示区和非显示区；

有机发光结构，位于所述基板的显示区内；

薄膜封装层，所述薄膜封装层覆盖所述有机发光结构；

至少一阻隔柱，所述阻隔柱与所述有机发光结构位于所述基板的同一侧，且所述阻隔柱位于所述基板的非显示区内，其中，所述阻隔柱设置有导槽结构；

位于所述非显示区的金属走线，其中所述金属走线中跨越所述阻隔柱的部分位于所述导槽结构内；

其中，所述导槽结构的深度大于所述金属走线的高度，且所述导槽结构的深度小于所述阻隔柱的高度。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述金属走线包括触控电极线、数据连接线和扫描连接线中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻隔柱在垂直所述阻隔柱延伸的方向上的截面形状为梯形、半圆形或半椭圆形。

4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述有机发光结构远离所述基板一侧的触控电极；所述薄膜封装层包括至少一有机层和至少一无机层；所述触控电极位于所述薄膜封装层的一所述有机层或一所述无机层背离所述基板的表面。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述触控电极包括触控感测电极和触控驱动电极；所述触控电极线包括触控感测电极线和触控驱动电极线。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述触控感测电极和所述触控驱动电极同层设置。

7.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述触控感测电极和所述触控驱动电极之间至少间隔一层有机层或一层无机层。

8.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述金属走线包括触控电极线，所述有机发光结构包括像素限定层、支撑柱、第一电极、发光功能层以及第二电极；

其中，所述阻隔柱与所述像素限定层和/或所述支撑柱同层制作。

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述导槽结构在垂直所述导槽结构延伸方向的截面形状包含三角形、倒梯形、方形或弧形中的一种或者其任意组合。

10.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述导槽结构的宽度大于3μm。

11.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述导槽结构的深度大于300nm。

12.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，包含两个所述阻隔柱，且所述薄膜封装层依次包含第一无机层、有机层和第二无机层，其中，所述第一无机层的边界和所述第二无机层的边界均位于两个所述阻隔柱之间。

13.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-12中任一项所述的显示面板。

14.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板，所述基板包括显示区和非显示区；

在所述基板的显示区形成有机发光结构；

在所述基板的非显示区形成至少一阻隔柱；

在所述阻隔柱表面形成导槽结构；

形成覆盖所述有机发光结构的薄膜封装层以及在所述非显示区形成金属走线；

其中，所述阻隔柱和所述有机发光结构位于所述基板的同一侧；所述金属走线中跨越所述阻隔柱的部分位于所述导槽结构内；所述导槽结构的深度大于所述金属走线的高度，且所述导槽结构的深度小于所述阻隔柱的高度。

15.根据权利要求14所述的制作方法，其特征在于，采用激光刻蚀工艺在所述阻隔柱表面形成所述导槽结构。