[发明专利]一种有机场效应器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201611260478.3 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN108269917A 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 孙蓉;罗遂斌;王健;宋子杰;于淑会 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 巩克栋;侯桂丽
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 效应器 有机场 纳米颗粒 聚合物复合材料 柔性聚合物 半导体层 介电层 基底 制备 半导体纳米颗粒 导电纳米颗粒 电路保护 配合关系 柔性芯片 性能调控 制造成本 导电层 高介电 金属箔 聚合物 衬底 导电 基板 漏极 埋入 源极 沉积 应用 开发
【权利要求书】:

1.一种有机场效应器件,包括栅极、介电层、半导体层、源极和漏极,其特征在于,所述介电层为包含高介电纳米颗粒的聚合物复合材料。

2.根据权利要求1所述的有机场效应器件,其特征在于,所述高介电纳米颗粒为介电常数高于100的纳米颗粒;

优选地,所述高介电纳米颗粒包括高介电无机纳米颗粒,优选为钛酸钡、二氧化钛、钛酸锶、钛酸铜钙、锆钛酸铅或钛酸锶钡中的任意一种或至少两种的混合物;

优选地,所述介电层中的高介电纳米颗粒的粒径为1nm~1000nm,优选地50~500nm;

优选地,所述介电层中的高介电纳米颗粒所占的质量百分数为0.1wt%~70wt%;

优选地,所述介电层的厚度为20nm~20μm;

优选地,所述介电层中的聚合物包括环氧树脂,聚酰亚胺PI,双马来亚酰胺-三嗪树脂BT,聚偏二氟乙烯PVDF及其共聚物,聚乙烯吡咯烷酮PVP,聚乙二醇PEG,聚乙烯醇PVA,聚氨酯PU或聚甲基丙烯酸甲酯PMMA中的任意一种或至少两种的组合;

优选地,所述半导体层为包含导电纳米颗粒和/或半导体纳米颗粒的聚合物复合材料;

优选地,所述导电纳米颗粒包括碳纳米管、石墨烯、炭黑、金、银、铜、镍、铁、钛、铝或铂中的任意一种或至少两种的组合;

优选地,所述碳纳米管的直径为10nm~200nm,所述碳纳米管的长度优选为1μm~50μm;

优选地,所述石墨烯厚度为1nm~5nm;

优选地,所述导电纳米颗粒为:由碳纳米管及沉积在所述碳纳米管表面的纳米金属构成的杂化颗粒,所述纳米金属为金、银、铜、镍、铁、钛或铝中的任意一种或至少两种的组合;

优选地,所述导电纳米颗粒为:由石墨烯及沉积在所述石墨烯表面的纳米金属构成的杂化颗粒,所述纳米金属为金、银、铜、镍、铁、钛或铝中的任意一种或至少两种的组合;

优选地,所述半导体纳米颗粒包括ZnO、ZnS、TiO2、SiC或Cu2O中的任意一种或至少两种的组合;

优选地,所述半导体纳米颗粒的粒径为50nm~500nm;

优选地,半导体层中的导电纳米颗粒和/或半导体纳米颗粒所占的质量百分数为0.1wt%~40wt%;

优选地,所述半导体层的厚度为10nm~10μm;

优选地,所述半导体层中的聚合物包括聚苯,聚噻吩,聚苯胺,聚吡咯,环氧树脂,聚酰亚胺,双马来亚酰胺-三嗪树脂,聚偏二氟乙烯及其共聚物,聚乙烯吡咯烷酮,聚乙二醇,聚甲基丙烯酸甲酯或聚乙烯醇中的任意一种或至少两种的组合。

3.根据权利要求1或2所述的有机场效应器件,其特征在于,所述栅极为导电衬底,优选为金属箔,进一步优选为铜箔、铝箔、镍箔或钛箔中的任意一种或至少两种的组合。

4.根据权利要求1或2所述的有机场效应器件,其特征在于,所述栅极为:由柔性聚合物基底及沉积在所述柔性聚合物基底上的导电层构成的导电衬底;

优选地,所述柔性聚合物基底包括聚对苯二甲酸乙二醇酯PET、聚乙烯PE、聚丙烯PP、聚氯乙烯PVC或聚四氟乙烯PTFE中的任意一种或至少两种的组合;

优选地,所述导电层包括金层、银层、铂层、铝层、铜层、钛层、镍层或碳层中的任意一种或至少两种的组合;

优选地,所述导电层的厚度为20nm~10μm。

5.根据权利要求1-4任一项所述的有机场效应器件,其特征在于,所述栅极的厚度为1μm~40μm;

优选地,所述源极和漏极独立地包括金、银、铜、镍或铝的金属电极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳先进技术研究院,未经深圳先进技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611260478.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top