[发明专利]一种掩膜版,彩膜基板及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201611260568.2 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN106773526B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 王威 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F1/44 分类号: G03F1/44
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜版 彩膜基板 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种掩膜版,包括:

第一开口区,对应于显示面板的显示区域,包括用于形成显示区域像素图案的开口;

第二开口区,对应于显示面板的非显示区域,

其中,所述第二开口区用于形成像素测试图案,包括纵向设置的第一矩形子开口和第二矩形子开口,两个矩形子开口沿长边纵向排列设置,并且所述第二矩形子开口相对于所述第一矩形子开口横向偏移预定距离,所述第一矩形子开口和所述第二矩形子开口横向距离最远的两边之间的横向距离,等于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度,通过移动掩膜版一个像素图案的横向宽度对应的距离形成的另一颜色像素对应的测试图案,

所述第一矩形子开口的横向宽度和所述第二矩形子开口的横向宽度均大于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度的二分之一,并且小于所述第一开口区用于形成像素图案的开口的横向宽度。

2.根据权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一矩形子开口的横向宽度等于所述第二矩形子开口的横向宽度。

3.一种彩膜基板,包括:

显示区域,包括用于进行显示的像素矩阵;

非显示区域,包括用于检测像素矩阵中各颜色像素的像素测试图案,

其中,每一颜色像素对应的像素测试图案包括第一矩形测试图案和第二矩形测试图案,两个矩形测试图案的长边纵向排列设置,并且所述第二矩形测试图案相对所述第一矩形测试图案横向偏移预定距离设置,相邻不同颜色像素对应的测试图案的第一矩形测试图案之间和第二矩形测试图案之间具有间隙,

所述第一矩形测试图案和所述第二矩形测试图案横向距离最远的两边之间的横向距离,等于所述显示区域相同颜色像素的横向宽度,第一矩形测试图案由对应的第一矩形子开口曝光形成,第二矩形测试图案由对应的第二矩形子开口曝光形成,通过移动掩膜版一个像素图案的横向宽度对应的距离形成的另一颜色像素对应的测试图案,

所述第一矩形测试图案的横向宽度和所述第二矩形测试图案的横向宽度均大于所述显示区域的对应颜色像素的横向宽度的二分之一,并且小于所述显示区域的对应颜色像素的横向宽度。

4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一矩形测试图案的横向宽度等于所述第二矩形测试图案的横向宽度。

5.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述显示区域的像素矩阵中各颜色像素的横向宽度相等。

6.一种采用权利要求1或2所述掩膜版来制作彩膜基板的方法,在形成像素测试图案时包括以下步骤:

采用所述掩膜版曝光形成第一颜色像素对应的测试图案;

将所述掩膜版横向移动显示区域一个像素的横向距离并曝光形成第二颜色像素对应的测试图案;

将所述掩膜版横向移动一个像素的横向距离并曝光形成第三颜色像素对应的测试图案。

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