[发明专利]光敏组合物

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于各种元件中的光敏组合物、由该光敏组合物形成的固化膜、及使用有固化膜的滤色器、绝缘膜或保护膜。

背景技术

在制备工序时，显示元件等元件通常在元件的表面上施加化学药品处理或高温加热处理。因此，为了防止元件的表面劣化、损伤、变质而设有保护膜。在对保护膜要求耐热性、耐化学药品性、对基板的密合性、透明性及平坦性的同时，还要求良好的分辨率与留膜率。

保护膜大致区分为通过热固性组合物与光敏组合物而形成。通过热固性组合物而形成时，成膜时产生的挥发成分抑制的较低，且耐热性优异。但热固性组合物难以形成划线，需要清洗工序以清洗在切割面板时产生的屑末。

另一方面，通过光敏组合物而形成时，容易形成划线，成型性优异。因此，可微成型(微细图案化)的光敏组合物作为保护膜的需求增加。

但是，为了形成优异的微细图案形状，需要在光敏组合物中保持适当的溶解性，使分辨率与留膜率之间适当地平衡。若为了提高分辨率而提高未曝光部的溶解性，则曝光部的溶解性也增高，留膜率降低。另一方面，若为了提高留膜率而降低曝光部的溶解性，则未曝光部的溶解性也降低，分辨率降低。即，光敏组合物需要以提高曝光部的溶解性、降低未曝光部的溶解性的方式，选择适当的组合比例。因此，对于光敏组合物而言，将聚酯酰胺酸等的组合比例或构成保持在最佳，使分辨率或留膜率的关系适当是困难的。

例如，如专利文献1及2所示，为了提高溶解性，作为光敏组合物的原料的聚酰亚胺前驱体或可溶性聚酰亚胺需要高极性的有机溶剂，然而，在适用于滤色器的情况下，存在颜料或染料等着色材料溶出到高极性有机溶剂中的缺陷。

因此，如专利文献3所示，本申请的发明人们提出了以下方案：通过使酸酐、二胺及多羟基化合物之间的比例为规定的范围来合成聚酯酰胺酸，且将具有双键的化合物或环氧化合物等的总量设定在规定的范围内。由此，光敏组合物不需要高极性的有机溶剂，对基板的涂布性或平坦性提高，形成优异的微细图案形状。

本申请发明人们进一步进行改良，为了提高微细图案形状的成型性，通过使聚酯酰胺酸(A)具有聚合性双键作为必需构成成分，研究了分辨率与留膜率之间的适当关系。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开昭59-68332

专利文献2：日本特开2002-3516

专利文献3：日本特开2016-103010

发明内容

本发明要解决的技术问题

在此，本发明的技术问题在于提供一种固化膜及形成该固化膜的光敏组合物，该固化膜在耐热性、透明性、平坦性优异的同时，分辨率及留膜率也优异。此外，使用有该组合物的滤色器或保护膜等适用于各种用途中。

解决技术问题的技术手段

本申请发明人们为了解决上述技术问题进行了仔细研究，其结果，本发明的光敏组合物含有：具有聚合性双键的聚酯酰胺酸(A)、该聚酯酰胺酸(A)以外的具有聚合性双键的化合物(B)、光聚合引发剂(C)、环氧化合物(D)及添加剂(E)。此外，聚酯酰胺酸(A)通过将四羧酸二酐、二胺及多羟基化合物作为必需的原料成分进行反应而得到。

根据本发明的一个实施方式，光敏组合物含有：具有聚合性双键的聚酯酰胺酸(A)、该聚酯酰胺酸(A)以外的具有聚合性双键的化合物(B)、光聚合引发剂(C)、环氧化合物(D)、添加剂(E)。并且，该光敏组合物的特征在于，

聚酯酰胺酸(A)通过使X摩尔的四羧酸二酐、Y摩尔的二胺、Z摩尔的多羟基化合物以下述式(1)及式(2)的关系成立的比例进行反应而得到。

0.2≤Z/Y≤8.0·······(1)

0.2≤(Y+Z)/X≤5.0···(2)

此外，化合物(B)每一分子含有2个以上聚合性双键，环氧化合物(D)每一分子含有2～10个环氧基且重均分子量小于3,000。此外，相对于聚酯酰胺酸(A)100重量份，化合物(B)的总量为20～300重量份，环氧化合物(D)的总量为20～200重量份。

所述聚酯酰胺酸(A)含有下述式(3)所示的结构单元及下述式(4)所示的结构单元。