[发明专利]等离子体清洗光伏硅片有机污物设备在审
申请号: | 201611267477.1 | 申请日: | 2016-12-31 |
公开(公告)号: | CN106783711A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 滕海燕 | 申请(专利权)人: | 合肥优亿科机电科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L31/18;B08B13/00 |
代理公司: | 合肥天明专利事务所(普通合伙)34115 | 代理人: | 娄岳,金凯 |
地址: | 230888 安徽省合肥市高*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 清洗 硅片 有机 污物 设备 | ||
1.一种等离子体清洗光伏硅片有机污物设备,其特征在于:包括倒U型的支撑框架,支撑框架的顶边上设置有水平方向位移的移动工作台,所述的移动工作台上设有等离子体灭菌器,支撑框架的下方设有传送需要清洗的光伏硅片的流水线传送带,该等离子体灭菌器与流水线传送带的垂直距离可调;
所述的等离子体灭菌器包括等离子体发生电源、等离子体喷射机头和安装件,
该安装件为C字型,等离子体喷射机头与安装件的一端相连,安装件与移动工作台的中部连接,等离子体喷射机头通过高压绝缘线缆与等离子体发生电源的一极连接,等离子体发生电源的另一极连接安装台。
2.一种如权利要求1所述的等离子体清洗光伏硅片有机污物设备,其特征在于:所述的支撑框架、移动工作台、流水线传送带、等离子体灭菌器的等离子体发生电源和安装件均接地。
3.一种如权利要求1所述的等离子体清洗光伏硅片有机污物设备,其特征在于:所述的等离子体发生电源为交流电源,电源电压为3~30kV,交流频率包含低频、中频、高频、射频、微波。
4.一种如权利要求3所述的等离子体清洗光伏硅片有机污物设备,其特征在于:所述的等离子体发生电源的交流频率为中频、高频或射频。
5.一种如权利要求1所述的等离子体清洗光伏硅片有机污物设备,其特征在于:所述等离子体灭菌器的等离子体喷射机头由依次连接的喷嘴、机头外壳和后筒所形成的圆柱形壳体、圆柱形壳体内部的等离子发生装置及两者之间的绝缘层构成,所述后筒与等离子体灭菌器的安装件连接;
该机头外壳内测为台阶结构,其台阶面与后筒的端面压紧固定绝缘层;
该绝缘层由台阶结构的第一绝缘筒和圆筒形的第二绝缘筒构成,第一绝缘筒的台阶面与第二绝缘筒压紧固定有进气栅;
等离子发生装置包括:与喷嘴内侧接近的内电极,该内电极固定在进气栅上,内电极的后端设有圆柱状的内孔一,该内孔一中安装有铜电极,该铜电极的后端设有圆柱状的内孔二,内孔二的内部用固定有连接铜电极和等离子体发生电源的高压绝缘线缆。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造