[实用新型]显示基板、显示面板有效

专利信息
申请号: 201620008586.0 申请日: 2016-01-04
公开(公告)号: CN205281091U 公开(公告)日: 2016-06-01
发明(设计)人: 高贞龙;陈卓 申请(专利权)人: 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1339 分类号: G02F1/1339
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 柴亮;张天舒
地址: 017020 内蒙古自治*** 国省代码: 内蒙古;15
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板
【说明书】:

技术领域

实用新型属于显示基板技术领域,具体涉及一种显示基板、 显示面板。

背景技术

在显示面板(如液晶显示面板)的两个基板之间,需要设置隔垫 物以维持两基板间的距离。为了不影响显示,这些隔垫物要设置 在各子像素之间的位置,也就是设在黑矩阵所在的位置。

但是,这些隔垫物需要通过单独的工艺制备(例如用透明光刻 胶通过构图工艺制备)或布撒,这会使显示面板的制备工序增加, 工艺复杂。

另外,由于各子像素之间的距离很小,且黑矩阵的高度与彩 色滤光膜的高度相同或更低,故各子像素发出的光可能会斜向进 入相邻的子像素中,并穿过不同颜色的彩色滤光膜而变为其他颜 色,由此引起“串色”现象,影响显示。

实用新型内容

本实用新型针对现有的显示面板中隔垫物需要单独制备且各 子像素间容易产生串色的问题,提供一种不用单独制备隔垫物, 且可避免串色的显示基板、显示面板、

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种显示基 板,其包括多个子像素,每个所述子像素中设有彩色滤光膜,各 子像素之间设有黑矩阵,且

至少部分所述黑矩阵上设有条形的挡墙,挡墙与黑矩阵为一 体结构。

优选的是,所述黑矩阵上还设有隔垫物,所述隔垫物与黑矩 阵为一体结构。

进一步优选的是,所述隔垫物包括主隔垫物和辅隔垫物,所 述主隔垫物的高度大于辅隔垫物的高度。

进一步优选的是,所述挡墙的高度等于辅隔垫物的高度。

进一步优选的是,所述黑矩阵包括对应栅极线的黑矩阵和对 应数据线的黑矩阵,所述隔垫物设于对应栅极线的黑矩阵上。

优选的是,所述黑矩阵包括对应栅极线的黑矩阵和对应数据 线的黑矩阵,所述挡墙设于对应数据线的黑矩阵上。

优选的是,沿所述挡墙的长度方向每隔一段距离设有一个开 口。

优选的是,所述黑矩阵的高度小于最薄的彩色滤光膜的厚度。

优选的是,所述黑矩阵由黑色光刻胶构成。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种显示面 板,其包括上述的显示基板。

本实用新型的显示基板中包括挡墙,挡墙从黑矩阵上凸起, 从而可起到类似隔垫物的支撑作用,且其是与黑矩阵同步形成的, 由此不需要用单独的工艺制备,故可简化显示面板的制备工艺, 并由此提高产率,降低成本;同时,挡墙必然由与黑矩阵相同的 黑色材料构成,且挡在相邻的子像素之间,故其可阻止各子像素 的光进入相邻的子像素中,从而避免串色现象。

附图说明

图1为本实用新型的实施例的一种显示基板的局部俯视结构 示意图;

图2为本实用新型的实施例的一种显示基板的挡墙的局部面 结构示意图;

图3为本实用新型的实施例的一种显示基板的隔垫物的局部 面结构示意图;

图4为本实用新型的实施例的一种显示基板的隔垫物和彩色 滤光膜的局部面结构示意图;

其中,附图标记为:1、黑矩阵;11、挡墙;111、开口;12、 隔垫物;121、主隔垫物;122、辅隔垫物;2、彩色滤光膜;51、 栅极线;52、数据线;9、基底。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下 面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。

实施例1:

如图1至图4所示,本实施例提供一种显示基板,其包括多 个子像素,每个子像素中设有彩色滤光膜2,各子像素之间设有黑 矩阵1。

也就是说,本实施例的显示基板包括排成阵列的子像素,每 个子像素中填充有设于基底9上的相应颜色的彩色滤光膜2,以便 将从该子像素处射出的光转变为相应的颜色;而在各子像素之间 的位置则设有位于基底上的黑矩阵1,用于阻止光从这些位置射 出。由此,该显示基板可为彩膜基板,如用于液晶显示装置的彩 膜基板,当然,若该显示基板为COA(ColorOnArray)模式的阵列 基板,也是可行的。

其中,显示基板的至少部分黑矩阵1上设有条形的挡墙11, 挡墙11与黑矩阵1为一体结构。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司,未经鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620008586.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top