[实用新型]一种同步带传动的低音大张力磁粉制动器并轴架结构有效

专利信息
申请号: 201620009621.0 申请日: 2016-01-05
公开(公告)号: CN205382256U 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 周祝清;韩素文 申请(专利权)人: 周祝清
主分类号: D02H5/00 分类号: D02H5/00;D02H13/22
代理公司: 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 代理人: 王锋
地址: 224344 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 同步带 传动 低音 张力 制动器 结构
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及一种纺织前道并轴机,特别涉及一种同步带传动的低音大张力磁粉制动器并轴架结构,属于纺织技术领域。

背景技术

在纺织前道进行并轴过程中,要保证并轴架上的多个浆丝盘头上的纱线保持设定的张力,在并轴架上就需要安装磁粉制动器来满足设定的张力,而原来传统的浆丝盘头与磁粉制动器之间的传动是采用齿轮啮合来实现的。它的缺点是:一是不能满足大张力要求;二是齿轮啮合在运转时会发出高分贝的噪音,特别在大张力、高速运转时,发出的声音更大,工作环境受到噪音的严重污染;三是结构复杂,不易操作,容易在装卸浆丝盘头时碰坏齿轮。

实用新型内容

针对现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种同步带传动的低音大张力磁粉制动器并轴架结构,以满足生产时大张力以及高速运转时低噪音的需求。

为实现前述实用新型目的,本实用新型采用的技术方案包括:

一种同步带传动的低音大张力磁粉制动器并轴架结构,它包括并轴机架,所述并轴机架包括左立柱、右立柱和复数个浆丝盘头,所述复数个浆丝盘头安装于所述左立柱和所述右立柱上,它还包括用于控制所述浆丝盘头上卷取丝张力的铸件机架,所述浆丝盘头的两端至少一端设置有铸件机架,并所述铸件机架安装于所述左立柱和/或所述右立柱上。

进一步的,所述铸件机架包括铸件机座,安装于所述铸件机座的磁粉制动器、涨紧轮、小同步带轮、大同步带轮和传动轴,所述小同步带轮设置于所述磁粉制动器的轴外端,所述传动轴一端与所述浆丝盘头的轴端部连接,另一端与所述大同步带轮传动连接,所述小同步带轮经同步带与所述大同步带轮传动连接,所述涨紧轮与所述同步带抵紧。

更进一步的,所述传动轴经拨叉机构与所述浆丝盘头的轴端部连接。

更进一步的,所述磁粉制动器采用10kg.f.m磁粉制动器或者20kg.f.m磁粉制动器。

进一步的,所述左立柱和所述右立柱上设置有用于支撑所述浆丝盘头两端轴的轴承座和轴承卡扣。

本实用新型在并轴机架的立柱上通过铸件机架安装满足大张力的磁粉制动器,磁粉制动器轴通过小同步带轮、大同步带轮以及传动轴传动连接控制浆丝盘头的转动;在工作过程中,机器运作发出的声音很小。

与现有技术相比,本实用新型的优点包括:并轴机生产时,既满足大张力的要求,又没噪音,这种结构既能满足生产中的高要求,又经久耐用、低音、高效,从而可以更好地为纺织前道并轴机的生产过程中提供高效、耐用、无噪音污染的生产要求。

附图说明

图1是本实用新型一较佳实施例中同步带传动的低音大张力磁粉制动器并轴架结构的结构示意图;

图2是图1实施例中铸件机架的侧视图;

图3是图1实施例中铸件机架的横向截面图;

附图标记说明:1并轴机架,11浆丝盘头,12左立柱,13右立柱,2铸件机架,21铸件机座,22磁粉制动器,23小同步带轮,24大同步带轮,25同步带,26涨紧轮,27传动轴。

具体实施方式

鉴于现有技术中的不足,本案实用新型人经长期研究和大量实践,得以提出本实用新型的技术方案。如下将对该技术方案、其实施过程及原理等作进一步的解释说明。

实施例参阅图1-3,该同步带传动的低音大张力磁粉制动器并轴架结构包括并轴机架1和铸件机架2;并轴机架1包括左立柱12、右立柱13和复数个浆丝盘头11,浆丝盘头11安装于左立柱12和右立柱13上,铸件机架2包括铸件机座21以及安装于铸件机座21上的磁粉制动器22、涨紧轮26、小同步带轮23、大同步带轮24和传动轴27,小同步带轮23设置于磁粉制动器22的轴外端,传动轴27一端与浆丝盘头11的轴端部连接,另一端与大同步带轮24传动连接,小同步带轮23经同步带25与大同步带轮24传动连接,涨紧轮26与同步带25抵紧;铸件机架1经连接板安装于左立柱12上。

优选的,磁粉制动器22采用10kg.f.m磁粉制动器或者20kg.f.m磁粉制动器;并左立柱12和右立柱13上设置有用于支撑浆丝盘头11的传动轴的轴承座和轴承卡扣;传动轴27经拨叉机构与浆丝盘头11的轴端部连接。

应当理解,上述实施例仅为说明本实用新型的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施,并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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