[实用新型]一种浇水均匀的花盆有效
申请号: | 201620011925.0 | 申请日: | 2016-01-07 |
公开(公告)号: | CN205320694U | 公开(公告)日: | 2016-06-22 |
发明(设计)人: | 柯育林 | 申请(专利权)人: | 柯育林 |
主分类号: | A01G9/02 | 分类号: | A01G9/02;A01G27/06;A01G27/00 |
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地址: | 363299 福建省漳州市漳浦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 浇水 均匀 花盆 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种花盆。
背景技术
盆景、花草普遍采用花盆栽培,现有的花盆的形状较为多样,这些花盆 的基本结构形式简单,大多呈桶形,便于种植,但它们在浇水过程中面临一 些实际问题,比如浇水后不同位置的土质含水情况不一,有些并未浇透,影 响了植物的生长效果。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足,提供一种浇水均匀的 花盆。
为了达到上述目的,采用如下技术方案:
一种浇水均匀的花盆,包括上开口的花盆本体、浇水带及底盘,所述花 盆本体呈喇叭状且上端的口径大,所述浇水带螺旋环绕向下地设置于所述花 盆本体外周壁上,所述浇水带上端设有进水口,所述进水口为壶嘴状,所述 浇水带下端设有出水口,所述浇水带为空心结构,所述花盆本体与浇水带接 触的壁上均匀设有圆形的进水孔,所述进水孔设有网罩;所述花盆本体底部 设有支撑脚及吸水凸台,所述吸水凸台底面设有吸水孔;所述底盘设于花盆 本体下方。
所述吸水凸台的高度小于支撑脚的高度。
本实用新型的有益效果:
1、浇水带螺旋环绕向下地设置于花盆本体外周壁上,花盆本体与浇水带 接触的壁上均匀设有圆形的进水孔,使得浇花时花盆里各部分土壤的湿度基 本均匀,提高了浇花效果。
2、花盆本体底部设有吸水凸台,吸水凸台底面设有吸水孔,当吸水孔浸 泡于底盘内的储水时,水可通过吸水孔进入花盆本体内,进行二次补水。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
附图符号说明:
花盆本体1、进水孔11、支撑脚12、吸水凸台13、吸水孔131、浇水带 2、进水口21、出水口22、底盘3。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附 图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的 具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
参考图1,本实用新型公开了一种浇水均匀的花盆,包括上开口的花盆本 体1、浇水带2及底盘3,花盆本体1呈喇叭状且上端的口径大,浇水带2螺 旋环绕向下地设置于花盆本体1外周壁上,浇水带2上端设有进水口21,进 水口21为壶嘴状,浇水带2下端设有出水口22,浇水带2为空心结构,花盆 本体1与浇水带2接触的壁上均匀设有圆形的进水孔11,进水孔11设有网罩。
浇水带2螺旋环绕向下地设置于花盆本体1外周壁上,花盆本体1与浇 水带2接触的壁上均匀设有圆形的进水孔11,使得浇花时花盆里各部分土壤 的湿度基本均匀,提高了浇花效果。
花盆本体1底部设有支撑脚12及吸水凸台13,吸水凸台13的高度小于 支撑脚12的高度。吸水凸台13底面设有吸水孔131;底盘3设于花盆本体1 下方。当吸水孔131浸泡于底盘3内的储水时,水可通过吸水孔131进入花 盆本体1内,进行二次补水。吸水孔131兼具有排水功能。
以上,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围 并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范 围内,可轻易想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。 因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求的保护范围为准。
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