[实用新型]一种高光学性能指标的膜系结构有效

专利信息
申请号: 201620014711.9 申请日: 2016-01-08
公开(公告)号: CN205317972U 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 王英剑;方汉铿 申请(专利权)人: 合波光电通信科技有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B1/10
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 林松海
地址: 314200 浙江省嘉*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光学 性能指标 结构
【权利要求书】:

1.一种高光学性能指标的膜系结构,其特征在于,所述膜系结构包括基底以及沉积在 基底上的膜层,整个膜层的组成为非规整膜系,每层厚度不要求相同,最薄层不能低于 130nm的厚度;

膜层中的奇数单层为高折射率材料,折射率为2.1-2.2,偶数单层为低折射率材料,折 射率为1.46;

所述膜系结构对波长为1295.56nm和1304.58nm的入射光,或1300.05nm和1309.14nm的 入射光分光,当入射角为45度时,P偏振光在不同波段处的透射率分别为:1301.98~ 1307.18<0.46db,或1306.54~1311.74nm<0.46db,1292.96~1298.16nm>10db,或 1297.45~1302.65nm>10db。

2.根据权利要求1所述的高光学性能指标的膜系结构,其特征在于,所述的膜层的层数 为71层。

3.根据权利要求1所述的高光学性能指标的膜系结构,其特征在于,所述的基底为K9玻 璃材质,所述的低折射率材料为Si02,所述的高折射率材料为Ti02、Ta205、或Nb205

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合波光电通信科技有限公司,未经合波光电通信科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620014711.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top