[实用新型]一种高光学性能指标的膜系结构有效
申请号: | 201620014711.9 | 申请日: | 2016-01-08 |
公开(公告)号: | CN205317972U | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 王英剑;方汉铿 | 申请(专利权)人: | 合波光电通信科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/28 | 分类号: | G02B5/28;G02B1/10 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林松海 |
地址: | 314200 浙江省嘉*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 性能指标 结构 | ||
1.一种高光学性能指标的膜系结构,其特征在于,所述膜系结构包括基底以及沉积在 基底上的膜层,整个膜层的组成为非规整膜系,每层厚度不要求相同,最薄层不能低于 130nm的厚度;
膜层中的奇数单层为高折射率材料,折射率为2.1-2.2,偶数单层为低折射率材料,折 射率为1.46;
所述膜系结构对波长为1295.56nm和1304.58nm的入射光,或1300.05nm和1309.14nm的 入射光分光,当入射角为45度时,P偏振光在不同波段处的透射率分别为:1301.98~ 1307.18<0.46db,或1306.54~1311.74nm<0.46db,1292.96~1298.16nm>10db,或 1297.45~1302.65nm>10db。
2.根据权利要求1所述的高光学性能指标的膜系结构,其特征在于,所述的膜层的层数 为71层。
3.根据权利要求1所述的高光学性能指标的膜系结构,其特征在于,所述的基底为K9玻 璃材质,所述的低折射率材料为Si02,所述的高折射率材料为Ti02、Ta205、或Nb205。
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