[实用新型]大视场摆扫二维像移补偿双通道成像仪光学系统有效
| 申请号： | 201620030233.0 | 申请日： | 2016-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN205539710U | 公开（公告）日： | 2016-08-31 |
| 发明（设计）人： | 况耀武;舒嵘;何志平;亓洪兴;侯佳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B17/08 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 郭英 |
| 地址： | 200083 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 视场 二维 补偿 双通道 成像 光学系统 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海技术物理研究所，未经中国科学院上海技术物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620030233.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种消息显示方法和装置
- 下一篇：触摸屏制造方法及触摸屏
