[实用新型]一种匀胶机用免清洗罩

说明书

技术领域

本实用新型涉及到微纳米技术领域，尤其涉及一种匀胶机用免清洗罩。

背景技术

匀胶机有很多种称谓，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。只是匀胶机由于旋转光刻胶使得匀胶机机台内壁有大量的光刻胶玷污清洗时不太容易清洁彻底，反而给本该便捷的工作带来了繁琐。

为了解决上述技术问题，本实用新型设计了一种匀胶机用免清洗罩，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。

实用新型内容

为了克服背景技术中存在的缺陷，本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种匀胶机用免清洗罩，包括罩底、罩沿和安装孔，所述罩底的外沿上设有罩沿，所述罩沿的高度为8厘米，所述罩底的中心设有安装孔，所述罩底上设有四个环形槽，所述罩底上均匀分布有十二条径向槽，相邻两个环形槽之间的距离为3厘米。

本实用新型所涉及的一种匀胶机用免清洗罩，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型一种匀胶机用免清洗罩的结构示意图；

图2是图1中A出的局部放大图；

其中:1、罩底；2、罩沿；3、安装孔；4、环形槽；5、径向槽。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。附图为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

具体实施例，请参阅图1、图2，一种匀胶机用免清洗罩，包括罩底1、罩沿2和安装孔3，所述罩底1的外沿上设有罩沿2，所述罩沿2的高度为8厘米，所述罩底1的中心设有安装孔3，所述罩底1上设有四个环形槽4，所述罩底1上均匀分布有十二条径向槽5，相邻两个环形槽4之间的距离为3厘米。

本实用新型所涉及的一种匀胶机用免清洗罩，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。