[实用新型]线栅偏振片及液晶显示面板

说明书

技术领域

本实用新型属于线栅偏振片技术领域，具体涉及一种线栅偏 振片及液晶显示面板。

背景技术

如图1、图2所示，线栅偏振片(WGP,WireGridPolarizer)是 偏振片的一种类型。线栅偏振片包括设于基底9上的多个相互平 行且间隔排列的反射条1(如金属线)，其可将偏振方向与反射条平 行的光反射回去，而允许偏振方向与反射条垂直的光透过。线栅 偏振片的作用原理可能与反射条1中的电子与不同偏振光之间的 作用有关，在此不再详细描述。

对于不能透过的光，线栅偏振片是将其反射回去而不是吸收。 故若将线栅偏振片用于液晶显示面板中，则其会将偏振方向不正 确的光反射回背光源中，这些光线在背光源中经反射后再次射出 时可能转变为偏振方向正确的偏振光，可透过线栅偏振片，从而 提高了对光能的利用率。

但是，以上线栅偏振片也会将部分由外界射入液晶显示面板 的环境光反射回去，故当环境光较强时，反射的环境光会对显示 效果造成影响。

实用新型内容

本实用新型针对现有的线栅偏振片容易将环境光反射回去， 影响显示效果的问题，提供一种可避免反射环境光的线栅偏振片 及液晶显示面板。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种线栅偏振 片，其包括多个相互平行且间隔排布的反射条，以及设于所述反 射条一侧的吸光层。

优选的是，所述吸光层由非晶硅材料构成。

优选的是，所述吸光层的厚度在100nm至1000nm。

优选的是，所述线栅偏振片还包括设于所述吸光层远离反射 条一侧的高折射率层，所述高折射率层的材料的折射率大于或等 于1.5。

进一步优选的是，所述高折射率层由氮化硅或氧化硅构成。

进一步优选的是，所述高折射率层的厚度在50nm至1000nm。

优选的是，所述反射条由金属材料构成。

优选的是，每条所述反射条的宽度在50nm至200nm，相邻 反射条的间的距离在50nm至200nm。

优选的是，所述线栅偏振片还包括透明的基底，所述吸光层 设于所述反射条远离基底的一侧。

解决本实用新型技术问题所采用的技术方案是一种液晶显示 面板，其包括：

上述的线栅偏振片，其中线栅偏振片的反射条具有吸光层的 一侧朝向液晶显示面板的出光面。

在本实用新型的线栅偏振片中，在反射条一侧设有吸光层， 故从该侧照射到反射条上的光大部分会被吸光层吸收，反射回去 的很少，而射到反射条另一侧光仍可被反射回去或透过；由此当 把该线栅偏振片用于液晶显示面板时，其可将来自背光源的光反 射回去以提高光能利用率，而同时又可降低对环境光的反射，从 而改善显示效果。

附图说明

图1为现有的线栅偏振片的俯视结构示意图；

图2为现有的线栅偏振片的剖面结构示意图；

图3为本实用新型的实施例的另一种线栅偏振片的俯视结构 示意图；

图4为图3的线栅偏振片的剖面结构示意图；

图5为本实用新型的实施例的另一种线栅偏振片制备过程中 涂布压印胶后的剖面结构示意图；

图6为本实用新型的实施例的另一种线栅偏振片制备过程中 进行纳米压印时剖面结构示意图；

图7为本实用新型的实施例的另一种线栅偏振片制备过程中 纳米压印完成后的剖面结构示意图；

图8为本实用新型的实施例的另一种线栅偏振片制备过程中 对铝金属层刻蚀完成后的剖面结构示意图；

图9为本实用新型的实施例的另一种线栅偏振片的剖面结构 示意图；

图10为本实用新型的实施例的又一种线栅偏振片的剖面结 构示意图；

图11为本实用新型的实施例的不同线栅偏振片对不同波长 的光的反射率曲线图；

图12为本实用新型的实施例的具有高折射率层的不同线栅 偏振片对不同波长的光的反射率曲线图；

其中，附图标记为：1、反射条；11、铝金属层；2、吸光层； 21、非晶硅层；3、高折射率层；31、氮化硅层；5、保护层；8、 压印胶；89、纳米压印模板；9、基底。

具体实施方式