[实用新型]贮液箱

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种贮液箱。

背景技术

目前，在平板显示及半导体行业中，生产过程中多种工序中均会用到液 体材料的传输和供给，例如涂覆光刻胶、显影液喷涂和晶片处理等等，其中 晶片处理主要通过刻蚀技术来完成。

刻蚀技术，是按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄 膜进行选择性腐蚀或剥离的技术。通常情况下，影响剥离刻蚀完成的被刻蚀 物表面上附着的光刻胶速率的因素有两个：剥离液浓度、剥离液温度。

相关技术中，盛装剥离液的装置采用单层结构，由于这种结构的导热性 较强，若想要控制剥离液的温度保持在一定的范围内，就需要耗费大量的时 间和电能，并且生产效率较低。

实用新型内容

本实用新型提供一种贮液箱，以克服采用单层结构的装置，由于这种结 构的导热性较强不利于温度的控制，并且生产效率较低的问题。

本实用新型提供一种贮液箱，包括：箱体、保温层以及冷却装置；

所述保温层设置在所述箱体的外侧；

所述冷却装置设置在所述箱体与所述保温层之间，所述冷却装置设置有 注液口和放液口。

进一步地，上述贮液箱中，所述保温层设置在所述箱体的底部和/或侧壁。

进一步地，上述贮液箱中，所述保温层为内部真空的腔体结构。

进一步地，上述贮液箱中，所述保温层的外表面设置有与所述腔体结构 连通的至少一个抽气孔。

进一步地，上述贮液箱中，所述冷却装置为管状结构或层状结构。

进一步地，上述贮液箱中，所述冷却装置设置在所述箱体外的侧壁。

进一步地，上述贮液箱中，所述注液口位于所述冷却装置的上部，所述 放液口位于所述冷却装置的下部。

进一步地，上述贮液箱中，所述冷却装置设置在所述箱体外的底部。

进一步地，上述贮液箱中，所述注液口位于所述冷却装置的腔体的一侧， 所述放液口位于所述冷却装置的腔体的另一侧，且所述注液口与所述放液口 位置相对。

本发明还提供一种贮液箱，包括：箱体、保温层以及冷却装置；

所述保温层设置在所述箱体的外侧；

所述冷却装置设置在所述箱体内，所述冷却装置设置有注液口和放液口。

本实用新型贮液箱，通过将保温层设置在所述箱体的外侧，所述冷却装 置设置在所述箱体与所述保温层之间，所述冷却装置设置有注液口和放液口， 解决了采用单层结构的装置，由于这种结构的导热性较强不利于温度的控制， 并且生产效率较低的问题，实现了可以根据生产过程中的使用需要来控制贮 液箱内盛装的液体的温度，节约资源，提高了生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将 对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地， 下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来 讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型贮液箱实施例的第一结构示意图；

图2为本实用新型贮液箱实施例的第二结构示意图。

附图标记：

1—箱体

2—保温层

21—抽气孔

3—冷却装置

31—注液口

32—放液口

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合 本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、 完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全 部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出 创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

图1为本实用新型贮液箱实施例的第一结构示意图，如图1所示，本实 施例的贮液箱可以包括：箱体1、保温层2以及冷却装置3。