[实用新型]一种新型荧光片清洗工作站

说明书

技术领域

本实用新型属于医疗器械技术领域，具体涉及一种新型荧光片清洗工作站。

背景技术

目前荧光片的清洗有两种方法，一是手动洗片，将荧光片浸泡在清洗缸中，清洗效果佳，无法自动化；二是目前自动化仪器上的清洗方法，自动化仪器采用反复向反应区滴加微量液滴的方法清洗，可以自动化但是效果一般。

发明内容

本实用新型的目的是：为了解决荧光片扣板反应的荧光片清洗问题，既不放弃手动洗片的效果，又可实现自动化，研发该实用新型采用倒扣浸泡方法，方便检验人员操作使用和达到更好的效果，其技术方案如下：

一种新型荧光片清洗工作站，它包括清洗盒体1、清洗放置槽2、清洗槽3、清洗通孔4、连接通孔5、储水槽6、连接管7，其特征在于：所述清洗盒体1上顶端表面中间处设有清洗放置槽2，所述清洗放置槽2内部下端面平均分布设有若干个清洗槽3，每个所述清洗槽3内部下端面左右边缘对称设有清洗通孔4，每个所述清洗通孔4下端面各固定连接有连接通孔5，所述连接通孔5下端面固定连接有储水槽6，所述储水槽6下端面固定连接有连接管7，所述清洗放置槽2内部、所述清洗槽3内部、所述清洗通孔4内部、所述连接通孔5内部、所述储水槽6内部和所述连接管7内部相互通联，每一横排所述连接通孔5下端面各固定连接有储水槽6，并每个所述储水槽6下端面上的连接管7位置不同，所述清洗盒体1左右顶端表面各固定连接有粘片，所述连接管7插入所述清洗盒体1内部并与所述储水槽6固定连接。

本实用新型的有益效果为：为了解决荧光片扣板反应的荧光片清洗问题，既不放弃手动洗片的效果，又可实现自动化，研发该实用新型采用倒扣浸泡方法，方便检验人员操作使用和达到更好的效果。

附图说明：

图1是本实用新型的整体结构示意图；

图2使本实用新型的剖视示结构意图。

具体实施方式：

参照图1图2所述一种新型荧光片清洗工作站，它包括清洗盒体1、清洗放置槽2、清洗槽3、清洗通孔4、连接通孔5、储水槽6、连接管7，其特征在于：所述清洗盒体1上顶端表面中间处设有清洗放置槽2，所述清洗放置槽2内部下端面平均分布设有若干个清洗槽3，每个所述清洗槽3内部下端面左右边缘对称设有清洗通孔4，每个所述清洗通孔4下端面各固定连接有连接通孔5，所述连接通孔5下端面固定连接有储水槽6，所述储水槽6下端面固定连接有连接管7，所述清洗放置槽2内部、所述清洗槽3内部、所述清洗通孔4内部、所述连接通孔5内部、所述储水槽6内部和所述连接管7内部相互通联，每一横排所述连接通孔5下端面各固定连接有储水槽6，并每个所述储水槽6下端面上的连接管7位置不同，所述清洗盒体1左右顶端表面各固定连接有粘片，所述连接管7插入所述清洗盒体1内部并与所述储水槽6固定连接。

使用时，首先将荧光片放置在清洗放置槽2内部，并且将荧光片上的样本槽与清洗槽3内部的清洗通孔4相对应，然后将进水管与其中一个清洗盒体1下方的连接管7相连接并注水，通过连接通孔5注入清洗槽3内部，最后由另一侧的连接通孔5流入另一个储水槽6内并由另一个连接管7流出即可，同时可以将若干个清洗后1由粘片互相连接并同时清洗多个荧光片。

，上述说明并非是对本实用新型的限制，本实用新型也并不仅限于上述举例，本技术领域的技术人员在本实用新型的实质范围内所做出的变化、改型、添加或替换，也应属于本实用新型的保护范围。