[实用新型]一种电磁屏蔽防辐射布

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种适用于电子产品的电磁屏蔽材料，具体地说是一种电磁屏蔽防辐射布。

背景技术

随着现代科学技术的发展和现代电子、通信技术的广泛运用，为了信息安全，防止信息泄露和被干扰，需要电磁屏蔽的对象日益增多，需要屏蔽的程度日益增强，对屏蔽的时间和空间要求日益增高。此外，电磁波干扰作为一种新的环境污染源也不断引起人们的关注。电磁辐射产生的电磁干扰不仅影响到电子产品的性能实现，而且由此而引起的电磁污染会对人类和其它生物体造成严重的伤害。为防止电磁波辐射造成的干扰和泄漏，利用电磁屏蔽材料进行电磁屏蔽是目前采用的主要方法。现有的屏蔽材料包括电磁屏蔽金属板、电磁屏蔽布等，其中电磁屏蔽布广泛应用在计算机、微波、防静电、防爆等专业人员劳动保护服装、孕妇服装、军事用途的屏蔽帐篷、屏蔽幕布、装备盖布，电子仪表的静电防护和信息安全屏蔽等。目前，市场上出现的电磁屏蔽布主要是在织布时加入金属丝或导电纤维制成，生产过程中金属丝易断裂，屏蔽效果不理想，金属易腐蚀，耐磨性低等缺点，远不能满足使用的要求。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型提供了一种电磁屏蔽防辐射布。该布在金属离子膜层和吸波层双重作用下，屏蔽效能高，在10MHZ~40GHz范围内拥有较高的屏蔽效能，屏蔽效能可以达到80dB以上。同时由于该布还设有透明耐磨层和复合纳米抗菌层，其耐磨性好，抗菌效果好，安全系数更高。

本实用新型采用以下技术方案：

一种电磁屏蔽防辐射布，其特征在于，它包括基底层、吸波层和金属离子膜层；所述吸波层位于基底层上方，金属离子膜层设于吸波层的上方；所述基底层的下方还设有透明耐磨层；所述金属离子膜层的上方还设有复合纳米抗菌层。

所述吸波层为聚氨酯：纳米碳化硅：玄武岩纤维按照1:0.2：0.05的比例混合制成的涂料，涂料厚度为0.05-0.2mm。

所述金属离子膜层为通过磁控溅射法和电镀法相结合的方式形成的Ni/Cu/Ni复合金属离子膜层，膜层厚度为0.15-0.2mm。

所述透明耐磨层为有机硅耐磨涂料，涂料厚度为0.1-0.2mm。

所述复合纳米抗菌层为纳米银：纳米氧化锌：纳米二氧化钛溶胶按照0.3：0.5：1的重量比混合制成的涂料，涂料层厚度为0.1-0.3mm。

所述基底层为棉、麻、丝、涤纶、锦纶、晴纶或其混纺的梭织、针织、经编织物层或无纺布层。

本实用新型的有益效果是：本实用新型的电磁屏蔽防辐射布采用金属离子膜层和吸波层双重作用，利用金属的高导电性，高反射率的特点，同时将不能反射回去的电磁波通过吸波层吸收，做到完全的电磁屏蔽，实现在10MHZ~40GHz范围内拥有较高的屏蔽效能，屏蔽效能可以达到80dB以上。由于该布还设有透明耐磨层和复合纳米抗菌层，其耐磨性好，抗菌效果好，安全系数更高，应用推广价值高。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

其中，1是基底层，2是吸波层，3是复合纳米抗菌层，4是金属离子膜层，5是透明耐磨层。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型的内容做进一步的详细说明。

实施例

如图1所示，一种电磁屏蔽防辐射布，它包括基底层1、吸波层2和金属离子膜层4；所述吸波层2位于基底层1上方，金属离子膜层4设于吸波层2的上方；所述基底层1的下方还设有透明耐磨层5；所述金属离子膜层4的上方还设有复合纳米抗菌层3。

所述吸波层2为聚氨酯：纳米碳化硅：玄武岩纤维按照1:0.2：0.05的比例混合制成的涂料，涂料厚度为0.05-0.2mm。

所述金属离子膜层4为通过磁控溅射法和电镀法相结合的方式形成的Ni/Cu/Ni复合金属离子膜层，膜层厚度为0.15-0.2mm。

所述透明耐磨层5为有机硅耐磨涂料，涂料厚度为0.1-0.2mm。

所述复合纳米抗菌层3为纳米银：纳米氧化锌：纳米二氧化钛溶胶按照0.3：0.5：1的重量比混合制成的涂料，涂料层厚度为0.1-0.3mm。

所述基底层1为棉、麻、丝、涤纶、锦纶、晴纶或其混纺的梭织、针织、经编织物层或无纺布层。