[实用新型]工件承载装置及其应用的工件研磨设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及工件加工技术领域，特别是涉及工件承载装置及其应用的工件研磨设备。

背景技术

现有的硅锭、晶棒(例如单晶硅、多晶硅)等工件研磨过程中，工件放在承载装置的承载面上随之转动，研磨装置设于承载装置上方，向下研磨工件，由于该类工件对尺寸要求精度非常高，因此承载面和研磨装置之间的间距在精度上亦有很高要求，例如需要达到某一精确高度，但由于需要调节的尺寸过于微小，因此通过现有的纯机械方式并不能达成。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供工件承载装置及其应用的工件研磨设备，通过金属热胀冷缩的原理来实现微调，解决现有技术中的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种工件承载装置，包括：设于预设位置的圆柱形的承载本体，其具有承载工件的承载面；多个金属固定件，穿设所述承载本体而固定于所述预设位置，以供加热或降温以膨胀或收缩来调节所述承载面高度。

于本实用新型的一实施例中，所述的工件承载装置，还包括：多个升降温装置，一一对应地设于各所述金属固定件处。

于本实用新型的一实施例中，所述各金属固定件是沿所述承载本体圆周方向均匀分布的。

于本实用新型的一实施例中，所述金属固定件有三个。

于本实用新型的一实施例中，所述承载本体沿水平向设置，各所述金属固定件沿竖直方向穿设所述承载本体。

于本实用新型的一实施例中，所述金属固定件为调节螺栓。

于本实用新型的一实施例中，所述承载本体包括：圆柱形的承载座及承载台，所述承载座通过穿设所述金属固定件而固定；所述承载台可旋转运动地设于所述承载座上，所述承载台的向上表面为工件的承载面。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种工件研磨设备，包括：所述的工件承载装置；研磨装置，与所述工件承载装置的承载面相对设置，用于研磨所述承载面上的工件；其中，所述工件承载装置的金属固定件供加热或降温以膨胀或收缩来调节所述承载面的倾角，以调节所述承载面与所述研磨装置的间距。

如上所述，本实用新型的工件承载装置及其应用工件研磨设备，通过对设于圆柱形的工件承载装置本体的多个金属固定件加热或降温以令其膨胀或收缩，从而实现高精度地微调工件承载装置对应工件的承载面倾角，实现工件在不同研磨倾角的研磨要求。

附图说明

图1显示为本实用新型于一实施例中工件研磨设备的俯视结构示意图。

图2显示为图1的正视结构示意图。

图3显示为本实用新型于一实施例中工件研磨设备部分部件的俯视结构示意图。

图4显示为图3的正视结构示意图。

元件标号说明

1工件研磨设备

11工件承载装置

111金属固定件

112承载座

113承载台

12研磨装置

2工件

3千分表

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。

请参阅图1至图4。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。

本实用新型的技术方案，可应用于工件研磨的技术领域，应用于例如磨床等研磨设备上，广泛用于硅片研磨、硅片抛光、锌合金研磨抛光、光扦接头、不锈钢平面抛光、LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、诸片、模具、导光板等各种材料的单面研磨、抛光.工作原理：本研磨机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压的方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。