[实用新型]一种炉管装置有效
申请号: | 201620133333.6 | 申请日: | 2016-02-22 |
公开(公告)号: | CN205368494U | 公开(公告)日: | 2016-07-06 |
发明(设计)人: | 李军;范建国;沈建飞 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴区大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 炉管 装置 | ||
1.一种炉管装置,包括:
基座;
设于所述基座上的外管及内管,且所述内管位于所述外管内;
设于所述内管中的用于承载晶圆的晶舟,所述晶舟通过一晶舟承载装置装设于所述基座上;所述晶舟包括上底及下底,所述上底与下底之间连接有至少三根晶柱;
设于所述基座侧壁上的至少一条进气管道;所述进气管道与所述内管连通,并通过设于所述基座上的喷嘴向所述内管输送气体;其特征在于:
所述晶舟承载装置与一旋转驱动装置相连,在所述旋转驱动装置的驱动作用下轴旋转,并带动所述晶舟轴旋转;
所述炉管装置还包括一与所述晶舟同步旋转的触发部,所述触发部周围设有一可做水平圆周运动的位置传感器,且所述位置传感器与所述触发部的运动轨迹同心。
2.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述位置传感器通过一连杆与一旋转驱动轴相连,在所述旋转驱动轴的驱动下作水平圆周运动。
3.根据权利要求2所述的炉管装置,其特征在于:所述位置传感器下方装设有一用以辅助所述位置传感器运动的滚轮装置。
4.根据权利要求2所述的炉管装置,其特征在于:所述连杆下方装设有一用以辅助所述位置传感器运动的滚轮装置。
5.根据权利要求3或4所述的炉管装置,其特征在于:所述位置传感器下方设于一圆环形轨道,所述轨道与滚轮装置的运动轨迹相对应,使得所述滚轮装置在所述轨道内运动。
6.根据权利要求2所述的炉管装置,其特征在于:所述旋转驱动装置包括一旋转输出轴,所述晶舟承载装置与所述旋转输出轴相连。
7.根据权利要求6所述的炉管装置,其特征在于:所述旋转驱动轴与所述旋转输出轴互相套接。
8.根据权利要求7所述的炉管装置,其特征在于:所述旋转驱动轴为主动轴。
9.根据权利要求7所述的炉管装置,其特征在于:所述旋转驱动轴为从动轴,所述旋转驱动轴旁设有一用于驱动所述旋转驱动轴旋转的动力输出装置。
10.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述位置传感器为机械磁感应传感器,所述触发部包括与所述磁感应接近传感器相匹配的磁体。
11.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述位置传感器与所述触发部位于同一水平面上。
12.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述位置传感器与所述触发部不在同一水平面上。
13.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述位置传感器与一信号输出装置相连。
14.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述旋转驱动装置设于所述基座内。
15.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述旋转驱动装置采用皮带传动。
16.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述晶柱内侧设有若干用于承载晶圆的凹槽或凸块。
17.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述外管顶部设有盖体;所述内管顶部开口。
18.根据权利要求1所述的炉管装置,其特征在于:所述基座侧壁上还设有至少一条出气管道;所述出气管道与所述内管与外管之间连通。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的