[实用新型]显示器件的对位检测设备及曝光工艺系统有效
| 申请号： | 201620226332.6 | 申请日： | 2016-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN205427436U | 公开（公告）日： | 2016-08-03 |
| 发明（设计）人： | 张磊;代伍坤;陈磊;李嘉鹏;董宜萍 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示 器件 对位 检测 设备 曝光 工艺 系统 | ||
【说明书】：
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