[实用新型]用于半导体处理腔室的双通道喷头有效
| 申请号： | 201620346066.0 | 申请日： | 2016-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN205900504U | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | K·阿拉亚瓦里;韩新海;P·P·贾;M·绪方;Z·蒋;A·柯;N·O·木库提;T·布里彻;A·K·班塞尔;G·巴拉苏布拉马尼恩;J·C·罗查-阿尔瓦内兹;金柏涵 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J49/16 | 分类号： | H01J49/16;C23C24/08;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 黄嵩泉 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 处理 双通道 喷头 | ||
【权利要求书】：
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