[实用新型]一种用于生产型磁控溅射系统的升降机构有效
申请号: | 201620494944.3 | 申请日: | 2016-05-27 |
公开(公告)号: | CN205773055U | 公开(公告)日: | 2016-12-07 |
发明(设计)人: | 佘鹏程;龚俊;彭立波;陈特超;范江华 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | B66F3/46 | 分类号: | B66F3/46;B66F3/44;B66F3/22;C23C14/35 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008 | 代理人: | 周长清;戴玲 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 磁控溅射 系统 升降 机构 | ||
【权利要求书】:
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