[实用新型]一种用于总氮分析设备的除水装置有效
申请号: | 201620499993.6 | 申请日: | 2016-05-27 |
公开(公告)号: | CN206198967U | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 周裕红;王军;聂明达;郭立新;朱晶晶;余欣雨 | 申请(专利权)人: | 鼎泰(湖北)生化科技设备制造有限公司 |
主分类号: | B01D53/26 | 分类号: | B01D53/26 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所11302 | 代理人: | 房德权 |
地址: | 435501 湖北省黄冈市黄*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 分析 设备 装置 | ||
1.一种用于总氮分析设备的除水装置,其中,总氮分析设备包括燃烧装置和还原装置,且所述除水装置分别与所述燃烧装置和所述还原装置连接,用于去除经过所述燃烧装置燃烧后产生的混合气体中的水分;其特征在于,所述除水装置包括:
一级除水机构;
二级除水机构,所述一级除水机构和所述二级除水机构相并联,且并联后的一端与所述燃烧装置连接,以接收所述燃烧装置燃烧后产生的混合气体;三级除水机构,所述三级除水机构与并联后的所述一级除水机构和所述二级除水机构的另一端连接,使得所述三级除水机构分别与所述一级除水机构、二级除水机构相串联,以通过所述三级除水机构接收经过所述一级除水机构和所述二级除水机构除水处理后的混合气体;
所述还原装置与所述三级除水机构连接,使得从所述三级除水机构出来后的混合气体在所述还原装置中被还原。
2.如权利要求1所述的用于总氮分析设备的除水装置,其特征在于,所述还原装置包括:
分流器,所述分流器与所述三级除水机构连接,以对由所述三级除水机构输送出的混合气体进行分流;
还原炉,所述还原炉分别与所述分流器和所述总氮分析设备中的检测装置相连,以对分流后的气体进行还原,并将还原后的气体送入所述检测装置中进行检测。
3.如权利要求2所述的用于总氮分析设备的除水装置,其特征在于,所述还原装置还包括:
传感器,所述传感器设置在所述还原炉和所述检测装置之间。
4.如权利要求1所述的用于总氮分析设备的除水装置,其特征在于;
所述一级除水机构包括:第一玻璃物理冷凝器、第一电子制冷除水器和第一吸附剂;所述第一玻璃物理冷凝器分别与所述燃烧装置和所述第一电子制 冷除水器连接;所述第一吸附剂与所述第一电子制冷除水器连接。
5.如权利要求4所述的用于总氮分析设备的除水装置,其特征在于;
所述二级除水机构包括:第二玻璃物理冷凝器、第二电子制冷除水器和第二吸附剂;所述第二玻璃物理冷凝器分别与所述燃烧装置和所述第二电子制冷除水器连接;所述第二吸附剂与所述第二电子制冷除水器连接。
6.如权利要求5所述的用于总氮分析设备的除水装置,其特征在于:
所述三级除水机构包括:第三玻璃物理冷凝器、第三电子制冷除水器和第三吸附剂;所述第三玻璃物理冷凝器分别与所述第一吸附剂、所述第二吸附剂和所述第三电子制冷除水器连接;所述第三电子制冷除水器和所述第三吸附剂连接;所述第三吸附剂与所述还原装置连接。
7.如权利要求6所述的用于总氮分析设备的除水装置,其特征在于,
所述第一玻璃物理冷凝器是第三代双三通玻璃冷凝器,所述第一电子制冷除水器是半导体制冷器,所述第一吸附剂是硅胶、活性氧化铝或者活性炭。
8.如权利要求7所述的用于总氮分析设备的除水装置,其特征在于,
所述第二玻璃物理冷凝器是第三代双三通玻璃冷凝器,所述第二电子制冷除水器是半导体制冷器,所述第二吸附剂是硅胶、活性氧化铝或者活性炭。
9.如权利要求8所述的用于总氮分析设备的除水装置,其特征在于,所述第三玻璃物理冷凝器是第三代双三通玻璃冷凝器,所述第三电子制冷除水器是半导体制冷器,所述第三吸附剂是硅胶、活性氧化铝或者活性炭。
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