[实用新型]一种氟化镱用沉积真空炉有效
| 申请号： | 201620554071.0 | 申请日： | 2016-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN205688009U | 公开（公告）日： | 2016-11-16 |
| 发明（设计）人： | 滕刚;闫海滨 | 申请（专利权）人： | 南京施密特光学仪器有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/52 | 分类号： | C23C14/52;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 210000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 氟化 沉积 真空炉 | ||
【权利要求书】：
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