[实用新型]一种成像准直体、治疗头及治疗设备

权利要求书

1.一种成像准直体，其特征在于，包括：挡块主体，所述挡块主体设置有至少一个空心部，所述空心部在厚度方向上小于所述挡块主体的厚度，所述空心部包括一个底面和一个侧面，所述挡块主体用于衰减放射源发出的放射束的能量，所述空心部用于对放射源发出的放射束进行约束，以形成具有对应空心部形状的发散束，其中，放射源发出的放射束进入空心部前的能量大于经过空心部后的能量。

2.根据权利要求1所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部的底面贯穿所述挡块主体。

3.根据权利要求1所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部还包括顶面，所述侧面位于所述顶面和所述底面之间，所述顶面小于所述底面。

4.根据权利要求3所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部的底面或顶面贯穿所述挡块主体。

5.根据权利要求1所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部内设置有填料，所述填料对射线束的衰减系数小于所述挡块主体对射线束的衰减系数。

6.根据权利要求5所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部内设置有至少两种填料，从所述空心部的中心到侧面，所述填料的平均衰减系数逐渐增大。

7.根据权利要求5所述的成像准直体，其特征在于，所述填料填充所述空心部的部分区域。

8.根据权利要求6所述的成像准直体，其特征在于，从所述空心部的中心区域到边缘区域侧面，所述填料的厚度增大。

9.根据权利要求1所述的成像准直体，其特征在于，所述挡块主体包括至少两个子挡块。

10.根据权利要求1所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部为圆锥。

11.根据权利要求3所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部为圆台。

12.根据权利要求1-11任一项所述的成像准直体，其特征在于，所述挡块主体上还设置有至少一个准直孔。

13.一种成像准直体，其特征在于，包括：挡块主体，所述挡块主体设置有至少一个空心部，所述空心部贯穿所述挡块主体，所述空心部包括一个底面和一个侧面，所述空心部内设置有填料，所述填料对射线束的衰减系数小于所述挡块主体对射线束的衰减系数；

所述挡块主体用于衰减放射源发出的放射束的能量，所述空心部用于对放射源发出的放射束进行约束，以形成具有对应空心部形状的发散束，其中，放射源发出的放射束进入空心部前的能量大于经过空心部后的能量。

14.根据权利要求13所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部内设置有至少两种填料，从所述空心部的中心到侧面，所述填料的平均衰减系数逐渐增大。

15.根据权利要求13所述的成像准直体，其特征在于，所述填料填充所述空心部的部分区域。

16.根据权利要求13所述的成像准直体，其特征在于，从所述空心部的中心区域到边缘区域侧面，所述填料的厚度增大。

17.根据权利要求1所述的成像准直体，其特征在于，所述挡块主体包括至少两个子挡块。

18.根据权利要求13所述的成像准直体，其特征在于，所述空心部为圆锥或圆台。

19.根据权利要求13-18任一项所述的成像准直体，其特征在于，所述挡块主体上还设置有至少一个准直孔。

20.一种治疗头，其特征在于，包括放射源以及如权利要求1-12或权利要求13-19任一项所述的成像准直体，其中，所述放射源位于所述挡块主体远离所述底面的一侧。

21.根据权利要求20所述的治疗头，其特征在于，所述治疗头还包括滤过层，用于改变放射源发出的放射束的强度和/或光谱。

22.根据权利要求20所述的治疗头，其特征在于，所述放射源正对所述空心部。

23.根据权利要求20所述的治疗头，其特征在于，所述挡块主体为圆柱，在所述挡块主体上还设置有至少一个准直孔的情况下，所述准直孔和所述空心部圆周分布在所述挡块主体上；

所述挡块主体的中轴线与所述放射源错开，所述挡块主体绕所述中轴线可旋转，以使得所述放射源发出的放射线通过所述准直孔射出或被所述挡块主体遮挡。

24.一种治疗设备，其特征在于，包括权利要求20-23任一项所述的治疗头。