[实用新型]一种用于清洁搓洗的组织结构有效
| 申请号： | 201620905229.4 | 申请日： | 2016-08-19 |
| 公开（公告）号： | CN206354960U | 公开（公告）日： | 2017-07-28 |
| 发明（设计）人： | 刘迅;余明东;刘伟 | 申请（专利权）人： | 成都神农堂实业有限公司 |
| 主分类号： | A47K7/02 | 分类号： | A47K7/02 |
| 代理公司： | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司51214 | 代理人： | 刘凯 |
| 地址： | 611136 四川省成都市温江*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 清洁 搓洗 组织 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于清洁搓洗的组织结构，包括清洁主体（1），其特征在于：在所述清洁主体（1）表面设置有若干半封闭凹坑（2），所述半封闭凹坑（2）顶部呈开放状态，所述半封闭凹坑（2）的外壁及底部为开有若干滤孔的网状结构。
2.根据权利要求1所述的用于清洁搓洗的组织结构，其特征在于：所述若干半封闭凹坑（2）在清洁主体（1）表面排列为若干列，所述相邻两列中的半封闭凹坑（2）交错布置或者平行布置。
3.根据权利要求1所述的用于清洁搓洗的组织结构，其特征在于：所述半封闭凹坑（2）的水平截面形状为规则或不规则的封闭几何体。
4.根据权利要求1、2或3所述的用于清洁搓洗的组织结构，其特征在于：所述清洁主体（1）整体呈平面片状、弧面状或球面状结构。
5.根据权利要求4所述的用于清洁搓洗的组织结构，其特征在于：所述清洁主体（1）的外表面呈斜向波纹起伏状或螺旋状。
6.根据权利要求4所述的用于清洁搓洗的组织结构，其特征在于：所述清洁主体（1）由线、片、块状材料二次加工或一次成型方式制成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都神农堂实业有限公司，未经成都神农堂实业有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201620905229.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
