[实用新型]单晶硅片清洗装置

权利要求书

1.一种单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述的装置包括烘烧箱、冷却箱和超声波振动箱，所述的烘烧箱上设置有开口，所述的开口连接有第一滑道，所述的第一滑道连接至冷却箱的一端，所述的冷却箱的另一端设置有第二滑道，所述的第二滑道连接至所述的超声波振动箱的一端。

2.根据权利要求1所述的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述的冷却箱的一端还设置有冷却水入口，所述的冷却箱的另一端还设置有冷却水出口，所述的冷却水入口与进水管相连接，所述的冷却水出口与排水管相连接，所述的进水管和排水管均连接至一储水箱。

3.根据权利要求1所述的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述的冷却箱的上端设置有喷淋装置，所述的冷却箱的下端设置有一排水口，所述的喷淋装置一端与进水管相连接，所述的排水口与排水管相连接，所述的进水管和排水管均连接至一储水箱。

4.根据权利要求1所述的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述的烘烧箱下端设置有加热盘。

5.根据权利要求1所述的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述的烘烧箱的上部设置有红外加热器。

6.根据权利要求1所述的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述的滑道为开放式的横截面为半圆形的管道。

7.根据权利要求1所述的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述的超声波振动箱下端设置有超声波振子。

8.根据权利要求1所述的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述的烘烧箱的开口上还设置有与所述的开口的形状相对应的门，所述的门的一侧与所述的烘烧箱通过铰链相连接，所述的门的另一侧与所述的烘烧箱通过开拆卸卡扣相连接。