[实用新型]竖直平面轨道压力演示仪有效

专利信息
申请号: 201620954609.7 申请日: 2016-08-28
公开(公告)号: CN206400895U 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 张月 申请(专利权)人: 张月
主分类号: G09B23/10 分类号: G09B23/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 722200 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 竖直 平面 轨道 压力 演示
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及压力演示仪技术领域,尤其涉及竖直平面轨道压力演示仪。

背景技术

在研究竖直平面内的圆周运动的教学中,小球运动到最高点和最低点对轨道的压力往往不能直接观察获得,为解决这一问题,特制作本演示仪,通过在轨道下端安装的压力计,但是现在存在的压力演示仪现象单一,不能改变小球进球口的高度,不能观察更多的实验现象,不利于学生更加充分的了解小球的压力现象,同时不能改变小球在不同角度下对轨道最高点和最地点的压力现象,实验操作单一,学生理解不够透彻。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的竖直平面轨道压力演示仪。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

竖直平面轨道压力演示仪,包括测试轨道,所述测试轨道的一侧设有出球轨道,所述测试轨道的另一侧设有第一进球轨道,所述测试轨道的底端设有放置台,所述放置台的底端设有称重台,所述称重台通过受力棒连接有压力计本体,所述出球轨道的底端设有第一支柱,且第一支柱贯穿放置台,所述第一进球轨道的底端设有第二支柱,且第二支柱贯穿放置台,所述测试轨道的顶端设有支架,所述支架上设有转轴,且转轴活动安装于支架上,所述第一进球轨道安装于转轴的底端,所述第一进球轨道的内壁两侧设有滑道,所述滑道内设有滑块,且滑块活动安装于滑道内,所述滑块远离滑道的一侧设有第二进球轨道,且第二进球轨道活动安装于第一进球轨道内,所述第二进球轨道上设有刻度尺。

优选的,所述压力计本体内设有刻度盘,且刻度盘上安装轻质读数游标。

优选的,所述压力计本体的底端均匀设有地脚,且地脚的数量为四个。

优选的,所述第一进球轨道上设有多个槽口,且槽口与第二支柱相匹配。

本实用新型中:

1、通过增加支架和转轴,能够调整第一进球轨道的角度,改变小球进入测试轨道的角度,增加实验结果;

2、通过增加滑块和滑道,能够延伸第二进球轨道,增加进球轨道的长度,改变小球在轨道中活动长度,增加实验结果。

附图说明

图1为本实用新型提出的竖直平面轨道压力演示仪的结构示意图;

图2为本实用新型提出的竖直平面轨道压力演示仪的滑块和滑道的结构示意图;

图3为本实用新型提出的竖直平面轨道压力演示仪的支架和转轴的结构示意图。

图中:1测试轨道、2第一进球轨道、3出球轨道、4第一支柱、5第二支柱、6放置台、7称重台、8压力机本体、9滑道、10滑块、11第二进球轨道、12刻度尺、13支架、14转轴。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-3,竖直平面轨道压力演示仪,包括测试轨道1,测试轨道1的一侧设有出球轨道3,测试轨道1的另一侧设有第一进球轨道2,测试轨道1的底端设有放置台6,放置台6的底端设有称重台7,称重台7通过受力棒连接有压力计本体8,出球轨道3的底端设有第一支柱4,且第一支柱4贯穿放置台6,第一进球轨道2的底端设有第二支柱5,且第二支柱5贯穿放置台6,测试轨道1的顶端设有支架13,支架13上设有转轴14,且转轴14活动安装于支架13上,第一进球轨道2安装于转轴14的底端,第一进球轨道2的内壁两侧设有滑道9,滑道9内设有滑块10,且滑块10活动安装于滑道9内,滑块10远离滑道9的一侧设有第二进球轨道11,且第二进球轨道11活动安装于第一进球轨道2内,第二进球轨道11上设有刻度尺12,压力计本体8内设有刻度盘,且刻度盘上安装轻质读数游标,压力计本体1的底端均匀设有地脚,且地脚的数量为四个,第一进球轨道2上设有多个槽口,且槽口与第二支柱5相匹配。

教学中,从第二进球轨道11中放入测试小球,小球沿第一进球轨道2进入测试轨道1内,利用压力计本体8内刻度盘上安装的轻质读数游标,可以简化粗略估计小球对轨道的瞬间压力值,通过转轴14和支架13,改变小球进入角度,采集数据,加强学生理解,通过滑道9和滑块10,利用第二进球轨道11上的刻度尺12,合理拉伸第二进球轨道11的长度,改变小球在轨道中的活动的长度,增加实验现成,多次数据采集,使学生理解透彻。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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