[实用新型]一种精神卫生科用皮肤护理清洗装置有效

专利信息
申请号: 201621004079.6 申请日: 2016-08-21
公开(公告)号: CN206151986U 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 陈洪振 申请(专利权)人: 陈洪振
主分类号: A61M3/02 分类号: A61M3/02;A61M35/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 276800 山东省日照市昭*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 精神 卫生 皮肤 护理 清洗 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型属于医疗器械装置技术领域,具体涉及一种精神卫生科用皮肤护理清洗装置。

背景技术

精神病指严重的心理障碍,患者的认识、情感、意志、动作行为等心理活动均可出现持久的明显的异常;不能正常的学习、工作、生活;动作行为难以被一般人理解;在病态心理的支配下,有自杀或攻击、伤害他人的动作行为。对精神卫生科的患者进行皮肤清洗和药物冲洗较难完成,药物有时难以混合均匀,冲洗的力度也不满意。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对上述现有技术的不足,提供一种能够产生螺旋射流、药物混合均匀的精神卫生科用皮肤护理清洗装置。

本实用新型的目的是通过以下技术方案实现的。

一种精神卫生科用皮肤护理清洗装置,包括储水袋和贮水箱,所述储水袋通过出水管与贮水箱连接,所述出水管上设置有流量调节阀,所述贮水箱的下端设置有接口,所述接口连接有冲洗管,所述冲洗管的末端连接有清洗头,所述清洗头包括入口管、文杜里管和喷管,所述入口管与冲洗管的末端连接,所述入口管通过文杜里管与喷管连通,所述入口管的侧壁上设置有注射器接口,所述注射器接口连接有注射器,所述文杜里管的内壁上设置有若干第一螺旋凹槽,所述第一螺旋凹槽的两侧设置有第一弧形扰流片,所述喷管的内壁上设置有若干第二螺旋凹槽,所述第二螺旋凹槽的两侧设置有第二弧形扰流片。

进一步地,所述第一螺旋凹槽和第二螺旋凹槽的螺旋方向相反。

进一步地,所述第一螺旋凹槽在文杜里管的内壁上均匀分布。

进一步地,所述第二螺旋凹槽在喷管的内壁上均匀分布。

进一步地,所述注射器上设置有刻度标。

进一步地,所述注射器的外壁上端设置有把手。

本实用新型由于采取上述技术手段而产生的有益效果是:本实用新型的精神卫生科用皮肤护理清洗装置,通过在清洗头设置入口管、文杜里管和喷管并在文杜里管和喷管的内壁分别设置螺旋凹槽和弧形扰流片,经过螺旋凹槽和弧形扰流片的喷射混合使药物更容易混合均匀。

附图说明

图1为本实用新型的精神卫生科用皮肤护理清洗装置的结构示意图。

图2为本实用新型的精神卫生科用皮肤护理清洗装置的局部放大图。

图中,1-储水袋,2-出水管,3-流量调节阀,4-贮水箱,5-接口,6-冲洗管,7-清洗头,8-入口管,9-注射器接口,10-文杜里管,11-第一螺旋凹槽,12-第一弧形扰流片,13-喷管,14-第二螺旋凹槽,15-第二弧形扰流片,16-注射器,17-把手,18-刻度标。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。

本实用新型的精神卫生科用皮肤护理清洗装置如图1和图2所示,包括储水袋1和贮水箱4,储水袋1通过出水管2与贮水箱4连接,出水管2上设置有流量调节阀3,贮水箱4的下端设置有接口5,接口5连接有冲洗管6,冲洗管6的末端连接有清洗头7,清洗头7包括入口管8、文杜里管10和喷管13,入口管8与冲洗管6的末端连接,入口管8通过文杜里管10与喷管13连通,入口管8的侧壁上设置有注射器接口9,注射器接口9连接有注射器16,注射器16上设置有刻度标18,注射器16的外壁上端设置有把手17,不需要注入药物的时候可用堵头将注射器接口9封堵,文杜里管10是由两段渐缩管道与一段水平管道组成的两端大中间小的管道,文杜里管10的内壁上设置有若干第一螺旋凹槽11,第一螺旋凹槽11在文杜里管10的内壁上均匀分布,第一螺旋凹槽11的两侧设置有第一弧形扰流片12,喷管13的内壁上设置有若干第二螺旋凹槽14,第二螺旋凹槽14在喷管13的内壁上均匀分布,第二螺旋凹槽14的两侧设置有第二弧形扰流片15,作为优选方案,第一螺旋凹槽11和第二螺旋凹槽14的螺旋方向相反。

本实用新型的精神卫生科用皮肤护理清洗装置,通过在清洗头7设置入口管8、文杜里管10和喷管13并在文杜里管10和喷管13的内壁分别设置螺旋凹槽和弧形扰流片,经过螺旋凹槽和弧形扰流片的喷射混合使药物更容易混合均匀。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本实用新型的保护范围。因此,本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

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