[实用新型]一种湿法制粒机的清洗系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及湿法制粒机技术领域，尤其是一种湿法制粒机的清洗系统。

背景技术

湿法制粒机是用以将潮湿的粉料研制成所需的颗粒，也可将块状的干料粉碎到所需的颗粒，湿法制成的颗粒经过表面润湿，具有颗粒质量好，外形美观、耐磨性较强、压缩成型性好等优点，在医药工业中应用最为广泛。

在对物料进行制粒时，由于制粒的物料不同，在制粒完成一种物料后，为了保证制粒的质量和效果，需要经过清洗后才能对后一种物料进行制粒，然而现有的湿法制粒机的清洗设备只是对制粒的锅体进行清洗，清洗后的清洗液通过出料口排出，在实际操作过程中，排出的清洗液的很多残渣会留在出料口，从而对后续制粒颗粒造成极大的影响。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：为了解决现有湿法制粒机的清洗只是对锅体进行清洗，清洗不彻底的问题，本实用新型提供了一种湿法制粒机的清洗系统，通过在锅盖上的第一在位清洗喷头，且在出料组件上设置第二在位清洗喷头，先对锅体进行清洗，通过出料口排出锅体内的清洗液后，再对出料口进行清洗，从而达到彻底清洗的效果。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种湿法制粒机的清洗系统，包括机架、以及安装在机架上的制粒锅和出料组件，

所述制粒锅包括锅体和用于密封锅体口的锅盖，所述锅盖上均匀设有对锅体内部设备进行清洗的若干个第一在位清洗喷头；

所述出料组件固定密封连接在所述锅体的侧壁上，所述出料组件包括出料口和均匀设置在出料口上方对出料口进行清洗若干个第二在位清洗喷头。

具体地，所述锅盖与锅体的连接面上周向设有放置密封圈的密封腔，保证良好的密封效果。

具体地，所述锅盖上还设有观察口，方便观察锅体内部制粒情况。

具体地，所述第一在位清洗喷头为1个、2个或3个，保证清洗效果更好。

具体地，所述第二在位清洗喷头为1个、2个或3个，保证清洗效果更好。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供了一种湿法制粒机的清洗系统，通过设置在锅盖上的第一在位清洗喷头，对锅体内部进行喷雾清洗，并通过出料口排出，然后通过设置在出料组件第二在位清洗喷头对出料口进行清洗，从而保证清洗彻底，为后续制粒提供良好的制粒环境，保证了制粒的质量。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的一种湿法制粒机的清洗系统的结构示意图；

图中：1. 机架；2. 制粒锅；3. 出料口；4. 第二在位清洗喷头；21. 锅盖；22. 第一在位清洗喷头；23. 观察口；24. 密封腔；25. 锅体。

具体实施方式

现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。

如图1所示，一种湿法制粒机的清洗系统，包括机架1、以及安装在机架1上的制粒锅2和出料组件，制粒锅2包括锅体25和用于密封锅体25口的锅盖21，锅盖21上均匀设有对锅体25内部设备进行清洗的若干个第一在位清洗喷头22；出料组件固定密封连接在锅体25的侧壁上，出料组件包括出料口3和均匀设置在出料口3上方对出料口3进行清洗若干个第二在位清洗喷头4。

其中锅盖21与锅体25的连接面上周向设有放置密封圈的密封腔24，而且锅盖21上还设有观察口23。

作为优选，第一在位清洗喷头22为1个、2个或3个。

作为优选，第二在位清洗喷头4为1个、2个或3个。

当制粒机制粒完成后需要对其他物料进行制粒时，需要对制粒机进行清洗，通过设置在锅盖21上的第一在位清洗喷头22，对锅体25内部进行喷雾清洗，并通过出料口3排出，然后通过设置在出料组件第二在位清洗喷头4对出料口3进行清洗，从而达到彻底清洗的效果。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。