[实用新型]一种具有校平机构的薄膜电池玻璃刻划装置有效

专利信息
申请号: 201621042578.4 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN206127120U 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 何光俊;李贵成;齐鹏飞;陈金良 申请(专利权)人: 中山瑞科新能源有限公司
主分类号: C03B33/02 分类号: C03B33/02
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 伍传松
地址: 528400 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 机构 薄膜 电池 玻璃 刻划 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及薄膜太阳能电池领域,尤其是一种具有校平机构的薄膜电池玻璃刻划装置。

背景技术

目前在以玻璃基板为衬底的薄膜太阳能电池制造过程中,经过高温沉积后如果出现部分玻璃基板会发生形变(中间位置或两边位置出现翘曲),在进行激光刻划时出现抓不到线的情况不能进行激光刻划,这就需要将形变的玻璃基板从激光器中取出来进行再冷却待基板恢复平整度后再进行激光刻线,如冷却不能恢复正常平整度的玻璃基板则需要调整CCD定位抓线范围才可进行正常刻线,不能及时解决生产中出现的形变的基板。

实用新型内容

为解决上述技术问题,本实用新型目的是提供一种具有校平机构的薄膜电池玻璃刻划装置。

本实用新型采用的技术方案是:

一种具有校平机构的薄膜电池玻璃刻划装置,包括用于在玻璃基板上刻划线的激光器、以及调整变形玻璃基板恢复水平的校平机构,该校平机构安装在激光器刻划时靠近玻璃基板位置并与未变形玻璃基板保持间隔,玻璃基板变形部分抵靠于该校平机构。

所述校平机构包括钢珠和与该钢珠连接的气缸,该钢珠由所述气缸推动并作用于所述变形后的玻璃基板。

所述校平机构包括微型吸盘和与该微型吸盘连接的真空发生器,该微型吸盘由所述真空发生器提供负压吸附力并作用于所述变形后的玻璃基板。

本实用新型的有益效果:

本实用新型薄膜电池玻璃刻划装置通过设置钢珠与微型吸盘等校平机构,可以根据产生形变后的玻璃基板具体情况进行实时校平,让激光刻线得以正常进行,有效提高了生产效率,避免了现有技术条件下需要取出重新处理这一情况。

附图说明

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做进一步的说明。

图1为本实用新型薄膜电池玻璃刻划装置的使用状态图①;

图2为本实用新型真空镀膜装置的使用状态图②;

图3为本实用新型真空镀膜装置的工作效果图。

具体实施方式

为了解决薄膜电池玻璃基板的变形问题,特提出本技术方案:一种具有校平机构的薄膜电池玻璃刻划装置,包括用于在玻璃基板10上刻划线的激光器(未示出)、以及调整变形玻璃基板10恢复水平的校平机构,该校平机构安装在激光器刻划时靠近玻璃基板10位置并与未变形玻璃基板10保持间隔,玻璃基板10变形部分抵靠于该校平机构。因激光器属于现有技术,且不属于本实用新型的改进点,在此不再赘述。下面将着重阐述校平机构。

玻璃基板10因镀膜高温沉积产生了形变,需进行校平才能使得激光CCD定位能够有效的抓线并实施刻线,高温沉积产生的形变有两种情况,一是玻璃基板10两边缘翘曲,二是玻璃中间部分产生了翘曲,这两种情况本发明分别用两种方案来进行解决。

如图1所示:为本技术方案的实施例1,所述校平机构包括钢珠20和与该钢珠20连接的气缸(未示出),该钢珠20由所述气缸推动并作用于所述变形后的玻璃基板10。本实施例1针对玻璃基板10两边缘翘曲的情况,由于玻璃两边缘已经由激光器定位夹子紧固不会移动,本发明采取玻璃基板10中间部分下面位置增加钢珠20往上顶且保证未发生形变玻璃基板10是不会接触到钢珠20的,经过向上顶的钢珠20作用使形变的基片得到有校校平,见图3,满足激光正常刻线要求。

如图2所示:为本技术方案的实施例2,所述校平机构包括微型吸盘30和与该微型吸盘30连接的真空发生器(未示出),该微型吸盘30由所述真空发生器提供负压吸附力并作用于所述变形后的玻璃基板10。本实施例1针对,玻璃基板10中间部分向上翘曲的情况,玻璃两边缘己由激光器定位夹子紧固且不会移动,本发明为改变中间部分翘曲的形状,在玻璃中间的下面位置加装微型吸盘30且保证未形变的玻璃基板10不会接触到微型吸盘30,中间翘曲部分经过吸盘30向下吸的作用力得到有效校平,满足激光刻线要求,见图3。

如图3,钢珠20与微型吸盘30两种实施例可以同时应用,其中,圆圈代表钢珠20,矩形条代表吸盘30,校平以后的效果示意图,其中钢珠20和吸盘30相互交替设置,如出现两边翘曲则采用钢珠20向上顶的方式使玻璃基板10校平,如中间部分出现翘曲即采用吸盘30向下吸的方式使玻璃基板10校平。

如上所述,可以看出本实用新型薄膜电池玻璃刻划装置通过设置钢珠20与微型吸盘30等校平机构,可以根据产生形变后的玻璃基板10具体情况进行实时校平,让激光刻线得以正常进行,有效提高了生产效率,避免了现有技术条件下需要取出重新处理这一情况。

以上所述仅为本实用新型的优先实施方式,本实用新型并不限定于上述实施方式,只要以基本相同手段实现本实用新型目的的技术方案都属于本实用新型的保护范围之内。

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