[实用新型]导光板及发光装置有效

专利信息
申请号: 201621052397.X 申请日: 2016-09-13
公开(公告)号: CN206617793U 公开(公告)日: 2017-11-07
发明(设计)人: 陈信宏;王崇豪;沈威志;曾炜展 申请(专利权)人: 奇美实业股份有限公司
主分类号: F21S2/00 分类号: F21S2/00;F21V8/00
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 代理人: 马雯雯,臧建明
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 导光板 发光 装置
【权利要求书】:

1.一种发光装置,其特征在于,包括:

光源,发出光束且具有光轴;以及

导光板,包括:

第一部;以及

第二部,其中所述第一部的最大厚度大于所述第二部的最大厚度,所述第一部具有相对于所述光轴倾斜的一斜面,所述光束被所述第一部的所述斜面反射后在所述第二部中传递。

2.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述第一部具有相对于所述斜面的第一底面以及入光面,所述入光面连接于所述斜面与所述第一底面之间,所述第二部具有与所述第一底面连接的第二底面以及相对于所述第二底面的第二顶面,所述斜面连接于所述入光面与所述第二顶面之间,所述光束自所述第一部的所述入光面进入所述导光板后被所述第一部的所述斜面反射至所述第二部的所述第二底面上。

3.根据权利要求2所述的发光装置,其特征在于,还包括:

至少一光学膜片,配置于所述导光板上。

4.根据权利要求3所述的发光装置,其特征在于,所述第一部的所述斜面与所述第二部的所述第二顶面围出凹陷的容置空间,而所述至少一光学膜片配置于所述容置空间中。

5.根据权利要求2所述的发光装置,其特征在于,所述第一部更具有相对于第一底面的第一顶面,所述第一顶面连接于所述入光面与所述斜面之间,所述斜面连接于所述第一顶面与所述第二顶面之间,而所述第一底面与所述第一顶面的距离大于所述第二底面与所述第二顶面的距离。

6.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述第二部具有透镜数组。

7.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述第一部的最大厚度为a,所述第二部的最大厚度为b;所述第一部的最大厚度与所述第二部的最大厚度的厚度差(a-b)的范围为100μm≤a-b≤350μm。

8.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述第一部的最大厚度为a,所述第二部的最大厚度为b,而0.5≤b/a≤0.82。

9.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述导光板的所述斜面在平行于所述光轴方向上具有宽度d,而0.5mm≤d≤5.0mm。

10.根据权利要求1所述的发光装置,其特征在于,所述斜面与所述光轴所在的参考平面夹有角度ψ,而4°≤ψ≤10°。

11.根据权利要求1所述的发光装置,其中所述斜面的中心线平均粗糙度Ra范围为0.01μm≤Ra≤0.05μm。

12.一种导光板,其特征在于,传递光束,所述导光板包括:

第一部;以及

第二部,其中所述第一部的最大厚度大于所述第二部的最大厚度,所述第一部具有斜面,所述光束被所述第一部的所述斜面反射后在所述第二部中传递。

13.根据权利要求12所述的导光板,其特征在于,所述第一部具有相对于所述斜面的第一底面以及入光面,所述入光面连接于所述斜面与所述第一底面之间,所述第二部具有与所述第一底面连接的第二底面以及相对于所述第二底面的第二顶面,所述斜面连接于所述入光面与所述第二顶面之间,所述光束自所述第一部的所述入光面进入所述导光板后被所述第一部的所述斜面反射而传递至所述第二部的所述第二底面上。

14.根据权利要求13所述的导光板,其特征在于,所述第一部更具有相对于所述第一底面的第一顶面,所述第一顶面连接于所述入光面与所述斜面之间,所述斜面连接于所述第一顶面与所述第二顶面之间,而所述第一底面与所述第一顶面的距离大于所述第二底面与所述第二顶面的距离。

15.根据权利要求13所述的导光板,其特征在于,所述斜面与所述第二顶面所在参考平面夹有角度ψ,而4°≤ψ≤10。

16.根据权利要求12所述的导光板,其特征在于,所述第二部具有透镜数组。

17.根据权利要求12所述的导光板,其特征在于,所述第一部的最大厚度为a;所述第二部的最大厚度为b;所述第一部的最大厚度与所述第二部的最大厚度的厚度差(a-b)的范围为100μm≤a-b≤350μm。

18.根据权利要求12所述的导光板,其特征在于,所述第一部的最大厚度为a,所述第二部的最大厚度为b,而0.5≤b/a≤0.82。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奇美实业股份有限公司,未经奇美实业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621052397.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top