[实用新型]一种陀螺玩具有效
申请号: | 201621059289.5 | 申请日: | 2016-09-18 |
公开(公告)号: | CN206642352U | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 村木诚 | 申请(专利权)人: | 株式会社多美 |
主分类号: | A63H1/00 | 分类号: | A63H1/00 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司11372 | 代理人: | 吴大建,钟日红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 陀螺 玩具 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种陀螺玩具。
背景技术
以往,作为使用陀螺玩具的对战游戏,例如有使在场地上旋转的陀螺玩具彼此互相碰撞,利用其冲击力,将对方的陀螺玩具弹飞到场地外。
在使用过程中,现有陀螺玩具以其下端为支点并绕着自身轴线高速旋转,但是当该陀螺玩具的支点被非标准场地的凹凸不平表面或其他阻碍物阻碍时,陀螺玩具的旋转速度将大幅下降,甚至出现瞬间停止的现象,因此现有陀螺玩具对场地要求过高。
实用新型内容
基于上述问题,本实用新型的目的在于提供一种陀螺玩具,即使该陀螺玩具的支点(即轴尖的下端)被非标准场地的凹凸不平表面或其他阻碍物阻碍,导致该轴尖的旋转速度迅速下降或直降到零,那么该陀螺主体也可相对轴尖继续旋转,从而降低该陀螺玩具对场地的要求。
本实用新型提供了一种陀螺玩具,该陀螺玩具包括陀螺主体和轴尖。轴尖设置在所述陀螺主体的下端,并能独立于所述陀螺主体旋转。
进一步地,在所述轴尖上设有转盘。
进一步地,所述转盘是圆盘。
进一步地,在所述转盘的下表面上设有向下延伸但不超越所述轴尖的下端的至少一个凸起。
进一步地,在所述陀螺主体的下端上设有沿着所述陀螺主体的轴线向内凹陷的容纳槽,所述轴尖的上端可旋转地插入所述容纳槽内,所述轴尖的下端能够作为所述陀螺玩具在旋转时的支点。
本实用新型的陀螺玩具能够在平坦场地上,以其轴尖的下端为支点并绕着自身轴线高速旋转,使得该陀螺玩具的陀螺主体和轴尖可一同转动。另外,由于轴尖设置在陀螺主体的下端并能独立于陀螺主体旋转,使得陀螺主体也可相对轴尖进行旋转,因此即使该陀螺玩具的支点(即轴尖的下端)被非标准场地的凹凸不平表面或其他阻碍物阻碍,导致该轴尖的旋转速度迅速下降或直降到零,那么该陀螺主体也可相对轴尖继续旋转,从而降低该陀螺玩具对场地的要求。
此外,传统陀螺玩具无法在表面粗糙的场地上进行高速的旋转,但是该陀螺玩具却可在表面比较粗糙的场地上进行高速旋转。详细地说,表面粗糙的场地与传统陀螺玩具之间产生的摩擦阻力较大,迫使传统陀螺玩具的转速不得不迅速降低,但当该陀螺玩具的轴尖与表面粗糙的场地之间产生的较大的摩擦阻力时,该陀螺主体便可自动地相对轴尖进行高速旋转,从而有效避免表面粗糙的场地对该陀螺玩具的影响。
本实用新型的陀螺玩具的结构简单,制造方便,使用安全可靠,便于实施推广应用。
附图说明
为了更清楚的说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要的附图做简单的介绍:
图1显示了根据本实用新型实施例一的陀螺玩具。
具体实施方式
以下将结合附图及实施例来详细说明本实用新型的实施方式,借此对本实用新型如何应用技术手段来解决技术问题,并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是,只要不构成冲突,本实用新型中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合,所形成的技术方案均在本实用新型的保护范围之内。
图1显示了根据本实用新型实施例一的陀螺玩具10。如图1所示,该陀螺玩具10包括陀螺主体1和轴尖2。该陀螺主体1的具体结构不作特别限定,例如陀螺主体1可是一个截头锥体,也可是由多个部件依次拼接而成的且大致呈现为上粗下细的回转体。陀螺主体1的材料为硬质材料,如树脂或金属。同样,轴尖2的材料也是硬质材料,如树脂或金属。该轴尖2设置在陀螺主体1的下端,并能独立于陀螺主体1旋转。
在本实施例中,在陀螺主体1的下端上设有沿着陀螺主体1的轴线向内凹陷的容纳槽11,轴尖2的上端21可旋转地插入容纳槽11内,使得轴尖2的下端22能够作为陀螺玩具10在旋转时的支点。容易理解的是,在其他的实施例中,所述容纳槽11也可设在轴尖2的上端21内,而陀螺主体1的下端可旋转地插入容纳槽11内,使得轴尖2的下端22同样能够作为陀螺玩具10在旋转时的支点。
在使用过程中,该陀螺玩具10能够在平坦的场地上,以其轴尖2的下端22为支点并绕着自身轴线高速旋转,该陀螺玩具10的陀螺主体1和轴尖2将一同转动。由于轴尖2能独立于陀螺主体1旋转,使得陀螺主体1也可相对轴尖2进行旋转,因此即使该陀螺玩具10的支点被非标准场地的凹凸不平表面或其他阻碍物阻碍,导致该轴尖2的旋转速度迅速下降或直降到零,那么该陀螺主体1也可相对轴尖2继续旋转,从而降低该陀螺玩具10对场地的要求。
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