[实用新型]辐射成像系统有效
| 申请号： | 201621060701.5 | 申请日： | 2016-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN206114564U | 公开（公告）日： | 2017-04-19 |
| 发明（设计）人： | 胡晓伟;孙晓明;李苏祺;王少锋;曹艳锋;郑建斌;闫雄;冯志涛 | 申请（专利权）人： | 北京君和信达科技有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01V5/00 |
| 代理公司： | 北京展翼知识产权代理事务所(特殊普通合伙)11452 | 代理人： | 屠长存 |
| 地址： | 100088 北京市西*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 辐射 成像 系统 | ||
【权利要求书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京君和信达科技有限公司，未经北京君和信达科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621060701.5/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种中空玻璃用暖边间隔条
- 下一篇：磷石膏制备建筑石膏的装置
