[实用新型]一种彩釉Low‑e玻璃

权利要求书

1.一种彩釉Low-e玻璃，其特征在于：包括玻璃基层(1)、Low-e膜层(2)、彩釉层(3)，所述彩釉层(3)设置于玻璃基层(1)上表面，该彩釉层(3)上表面从下至上依次设置有聚酯薄膜层(4)、纳米防静电涂层(5)，所述Low-e膜层(2)设置于玻璃基层(1)下表面，该Low-e膜层(2)从上至下依次包括有SiNx膜层(21)、Ag膜层(22)、ZnAlOx膜层(23)、SiC膜层(24)，所述SiNx膜层(21)设置于玻璃基层(1)下端面。

2.根据权利要求1所述的一种彩釉Low-e玻璃，其特征在于：所述玻璃基层(1)从下至上依次包括有下玻璃层(11)、间隔条框(12)、上玻璃层(13)，所述下玻璃层(11)、上玻璃层(13)与间隔条框(12)组成空腔，所述空腔内填充有惰性气体。

3.根据权利要求2所述的一种彩釉Low-e玻璃，其特征在于：所述下玻璃层(11)、上玻璃层(13)均设置为超白浮法玻璃，所述超白浮法玻璃的厚度设置为8～12mm。

4.根据权利要求2所述的一种彩釉Low-e玻璃，其特征在于：所述间隔条框(12)设置为铝材，该间隔条框(12)设置为空心框，所述空心框内设置有干燥剂(6)。

5.根据权利要求1所述的一种彩釉Low-e玻璃，其特征在于：所述SiNx膜层(21)的厚度设置为15～25nm。

6.根据权利要求1所述的一种彩釉Low-e玻璃，其特征在于：所述Ag膜层(22)的厚度设置为8～12nm。

7.根据权利要求1所述的一种彩釉Low-e玻璃，其特征在于：所述ZnAlOx膜层(23)的厚度设置为13～17nm。

8.根据权利要求1所述的一种彩釉Low-e玻璃，其特征在于：所述SiC膜层(24)的厚度设置为30～60nm。