[实用新型]一种在晶圆光刻工艺中与接触式光刻机配合使用的光刻板

权利要求书

1.一种在晶圆光刻工艺中与接触式光刻机配合使用的光刻板，其特征在于：该光刻板上对应于晶圆平边的区域设置有标尺图形，所述标尺图形包括若干条平行标尺，其中有两条平行标尺分别作为对准基线和平行对准标示；所述对准基线位于整个标尺图形的中部，是标尺图形中最长的一条平行标尺；所述平行对准标示与对准基线之间的距离用于标示晶圆平边与对准基线可允许的最大偏差。

2.根据权利要求1所述的光刻板，其特征在于：所述平行对准标示的长度或方向区别于其他平行标尺。

3.根据权利要求1所述的光刻板，其特征在于：所述对准基线始自光刻板的左端、终于光刻板的右端。

4.根据权利要求1所述的光刻板，其特征在于：所述标尺图形还包括且仅有一条垂直标尺，与所述若干条平行标尺呈十字交叉。

5.根据权利要求1所述的光刻板，其特征在于：所述若干条平行标尺的自身宽度和间距均相等。