[实用新型]流体控制设备、用于气体调节器的控制构件

权利要求书

1.一种流体控制设备，其特征在于，包括：

阀体，所述阀体限定用于流体的流动路径；

阀座，所述阀座沿所述流动路径被设置在所述阀体中；

致动器外壳，所述致动器外壳连接到所述阀体；

控制构件，所述控制构件被设置在所述阀体中并且能够在打开位置与闭合位置之间移动，所述控制构件在所述打开位置时与所述阀座间隔开，所述控制构件在所述闭合位置时接合所述阀座；

偏置构件，所述偏置构件被设置在所述致动器外壳中并且被配置为将所述控制构件偏置到所述闭合位置或所述打开位置；

阀杆，所述阀杆连接在所述偏置构件与所述阀座之间，并且与纵向轴线对齐；

连接构件，所述连接构件围绕所述阀杆安装，并且接合所述控制构件的底表面；以及

通孔，所述通孔形成在所述控制构件的所述底表面中，并且与所述纵向轴线对齐，所述通孔接收所述阀杆；以及

第一沉孔，所述第一沉孔形成在所述控制构件的所述底表面中，并且与所述纵向轴线对齐，所述第一沉孔接收所述连接构件。

2.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于，所述连接构件的厚度小于或等于所述第一沉孔的深度，以使得所述连接构件不从所述第一沉孔突出。

3.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于，所述连接构件具有第一直径，所述第一沉孔具有第二直径，其中，所述第二直径大于第一直径。

4.根据权利要求3所述的流体控制设备，其特征在于，所述通孔具有第三直径，所述第三直径小于所述第一直径和所述第二直径。

5.根据权利要求4所述的流体控制设备，其特征在于，所述控制构件的所述底表面包括与所述纵向轴线对齐的第二沉孔，所述第二沉孔具有大于所述第二直径的第四直径。

6.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于，所述控制构件包括顶表面，所述顶表面被配置为：当所述控制构件被布置在所述闭合位置时，接合所述阀座。

7.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于，包括膜片，所述膜片被设置在所述致动器外壳中并且操作地连接到所述控制构件，以响应于所述流体控制设备的出口压力的变化而移动所述控制构件。

8.根据权利要求1所述的流体控制设备，其特征在于，所述连接构件具有带螺纹的内表面，所述阀杆具有带螺纹的外表面，其中，通过使所述连接构件的所述带螺纹的内表面围绕所述阀杆的所述带螺纹的外表面转动，所述连接构件被紧固到所述控制构件的所述底表面。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的流体控制设备，其特征在于，所述偏置构件被配置为：将所述控制构件偏置到所述打开位置。

10.一种用于气体调节器的控制构件，其特征在于，所述气体调节器具有限定用于流体的流动路径的阀体、沿所述流动路径设置在所述阀体中的阀座、连接到所述阀体的致动器外壳、设置在所述致动器外壳中并被配置为将所述控制构件偏置到闭合位置或打开位置的偏置构件、连接在所述偏置构件与所述阀座之间的阀杆、以及以螺纹方式接合所述阀杆的螺母，其中，所述控制构件包括：

顶表面，所述顶表面被配置为当所述控制构件被布置在所述闭合位置时接合所述阀座；

底表面，所述底表面被配置为接合所述螺母；

通孔，所述通孔形成在所述控制构件的所述底表面中，并且被配置为接收所述阀杆；

第一沉孔，所述第一沉孔形成在所述控制构件的所述底表面中，并且被配置为接收所述螺母，所述第一沉孔与所述通孔对齐；并且

其中，所述第一沉孔的深度大于或等于所述螺母的厚度，以使得当所述螺母接合所述控制构件的所述底表面时，所述螺母不从所述第一沉孔突出。

11.根据权利要求10所述的控制构件，其特征在于，所述第一沉孔具有比所述通孔大的直径。

12.根据权利要求10所述的控制构件，其特征在于，包括第二沉孔，所述第二沉孔形成在所述底表面中，以使得所述第一沉孔被布置在所述通孔与所述第二沉孔之间，其中，所述第二沉孔具有比所述第一沉孔大的直径。

13.根据权利要求10所述的控制构件，其特征在于，所述控制构件的所述顶表面是平面的。