[实用新型]一种云台阻尼盘结构有效

专利信息
申请号: 201621124179.2 申请日: 2016-10-14
公开(公告)号: CN206419396U 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 蒋勇 申请(专利权)人: 蒋勇
主分类号: F16F7/00 分类号: F16F7/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100000 北京市朝*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阻尼 盘结
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及摄像机云台领域,涉及一种云台阻尼盘结构。

背景技术

随着摄像机的普及,相应摄像机配件的要求也越来越高,目前主流的云台中大都采用两金属片之间涂抹阻尼脂,通过两金属片之间的松紧调节阻尼力,缺点是没有密封,时间长了会渗漏。高端的云台大都有独立的阻尼盘,适用于有档位区分的非固定结构上,但是要求精度高,加工成本昂贵,导致经济性较差,且应用于固定式的脚架上不易固定,接触面积小而易造成松动,不利于进行摄像拍摄工作的进行,迫切需要一种结构简单、经济耐用的新型密封云台阻尼盘的出现。

实用新型内容

为解决以上现有问题,本实用新型提供一种云台阻尼盘结构。

本实用新型为实现以上目的,采用如下方案:一种云台阻尼盘结构,包括阻尼盘和托架,所述阻尼盘包括压盘和棘轮盘,所述压盘和棘轮盘分别设于阻尼盘两端,所述压盘上均匀分布有铆钉孔,所述棘轮盘边缘均匀分布有四个耳状凸出端,所述耳状突出端内设有螺丝孔,所述压盘与棘轮盘之间设有金属片,所述压盘、棘轮盘与金属片之间紧密相连,所述金属片包括固定定位片、活动定位片、活动摩擦片和固定摩擦片。

进一步的,所述固定定位片的内圆与活动定位片的外圆和活动摩擦片的相配合,所述固定定位片厚度和活动定位片厚度均大于活动摩擦片厚度,保证活动摩擦片在运动时有空间,铆接后阻尼脂不易外溢。

进一步的,所述活动定位片和活动摩擦片依次放置于固定定位片内圆处。

进一步的,所述棘轮盘、固定摩擦片、固定定位片和压盘通过铆钉依次连接于一体,所述棘轮盘与压盘间设有两组及两组以上金属片,所述靠近棘轮盘一端的金属片组中不含有活动定位片。

进一步的,所述托架上均匀设有与棘轮盘相对应的螺丝孔,所述螺丝孔周围还设有耳状凹槽,所述棘轮盘使用螺丝通过耳状凸出端上的螺丝孔将棘轮盘固定于托架的耳状凹槽中,利用耳状凹槽结构连接,使得棘轮盘和托架直接连接更加稳固,在转动时不易出现松动,长时间承受更大的扭力。

进一步的,所述活动摩擦片与活动定位片两面均涂有阻尼脂,阻尼脂具有很好的润滑和阻力作用。

本实用新型产生的有益效果:此云台阻尼盘结构经济耐用,结构简单稳定,具有良好的稳定性和缓冲性,不易产生阻尼脂泄露的的情况出现,易于固定,方便进行摄像工作。

附图说明

图1为云台阻尼盘内部结构示意图;

图2为云台阻尼盘盘片组合图示意图;

图3为云台阻尼盘结构。

图中:1、压盘,2、固定定位片,3、活动定位片,4、活动摩擦片,5、固定摩擦片,6、螺丝孔,7、棘轮盘,8、耳状凸出端,9、托架。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的技术方案作更为详细、完整的说明。

一种云台阻尼盘结构,包括阻尼盘和托架9,所述阻尼盘包括压盘1和棘轮盘7,所述压盘1和棘轮盘7分别设于阻尼盘两端,所述压盘1上均匀分布有铆钉孔,所述棘轮盘7边缘均匀分布有四个耳状凸出端8,所述耳状突出端8内设有螺丝孔6,所述压盘1与棘轮盘7之间设有金属片,所述压盘1、棘轮盘7 与金属片之间紧密相连,所述金属片包括固定定位片2、活动定位片3、活动摩擦片4和固定摩擦片5,所述固定定位片2、固定摩擦片5和棘轮盘7直径与压盘1相同,且在与压盘1相同位置设有数量和形状一致的铆钉孔;所述固定定位片2的内圆与活动定位片3的外圆和活动摩擦片4的外圆相吻合,所述固定定位片2厚度和活动定位片3厚度均大于活动摩擦片4厚度;所述活动定位片3和活动摩擦片4依次放置于固定定位片2内圆处;所述棘轮盘7、固定摩擦片5、固定定位片2和压盘1通过铆钉依次连接于一体,所述棘轮盘7与压盘1间设有两组及两组以上金属片,所述靠近棘轮盘7一端的金属片组中不含有活动定位片3;所述托架9上均匀设有与棘轮盘7相对应的螺丝孔,所述螺丝孔周围还设有耳状凹槽;所述棘轮盘7使用螺丝通过耳状凸出端8上的螺丝孔6将棘轮盘7固定于托架9的耳状凹槽中;所述活动摩擦片4 与活动定位片3两面均涂有阻尼脂。

显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例,而不是全部实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施,都属于本实用新型的保护范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蒋勇,未经蒋勇许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201621124179.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top