[实用新型]隐形正畸生产线自动洗消系统有效

专利信息
申请号: 201621132737.X 申请日: 2016-10-19
公开(公告)号: CN206286275U 公开(公告)日: 2017-06-30
发明(设计)人: 刘玉龙;金娜;刘继敏;王凯 申请(专利权)人: 青岛兰信医学科技有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B3/02;B08B3/08;F26B21/00;F26B3/30;A61L2/18;A61L2/10;A61L101/06
代理公司: 青岛中天汇智知识产权代理有限公司37241 代理人: 万桂斌
地址: 266000 山东省青岛市市北区*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 隐形 生产线 自动 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及清洗消毒技术领域,尤其涉及一种隐形正畸生产线自动洗消系统。

背景技术

隐形矫治器生产线在接收印模、石膏灌制、模型打印、切削打磨等工序后需要对工序产出物进行清洗消毒。在当前的隐形正畸矫治器生产过程中,清洗消毒主要采用人工操作,流程不固定,时间掌控依赖经验,效果偏差大,对清洗的洁净效果和有害细菌病毒的杀灭程度不能准确把握;又或者采用单一的清洗消毒方法,只能杀灭某几类特定的细菌病毒。

又因隐形正畸材料的特殊性,对温度,湿度以及光照等物理化学环境均有对应的要求,所以在清洗消毒过程中的方法使用就有非常严格的限制条件。因此清洗消毒自动化一体式系统的研制就有非常重要的现实意义。

实用新型内容

为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种隐形正畸生产线自动洗消系统,该洗消系统的运行基本上不依靠人工的干扰,清洗精确到位,清洗效率高,清洗效果好。

为了实现上述目的,本实用新型采用如下技术方案,隐形正畸生产线自动洗消系统,包括主控模块、超声波清洗设备、二氧化氯喷淋清洗设备、蒸馏水清洗设备、除水干燥设备和紫外线消毒柜,所述超声波清洗设备包括控制模块I和清洗槽,所述二氧化氯喷淋清洗设备包括控制模块II和滚筒II,所述蒸馏水清洗设备包括控制模块III和滚筒III,所述除水干燥设备包括控制模块IV和滚筒IV,所述紫外线消毒柜包括控制模块V,所述控制模块I、控制模块II、控制模块III、控制模块IV和控制模块V均分别与主控模块相连,所述清洗槽的内部与所述滚筒II的入口之间设置传送带,所述滚筒II的排出口与所述滚筒III的入口之间设置传送带,所述滚筒III的排出口与所述滚筒IV的入口之间设置传送带,所述滚筒IV的排出口处设置有收集箱,所述传送带通过电动机进行驱动,所述电动机与主控模块相连。

本实用新型的隐形正畸生产线自动洗消系统基本上能够实现对隐形正畸生产线的产物进行自动的清洗,清洗过程控制精确,清洗到位,不依赖人工经验对时间的掌握,不损伤清洗对象,清洗效果好,能清除绝大部分有害菌。

优选地,所述清洗槽中设置有传感器,所述传感器与主控模块相连。用以保证清洗槽中的水比较清洁,以达到较好的清洗效果。

优选地,所述超声波清洗设备为高频超声波清洗设备。

优选地,所述滚筒均10~15°倾斜设置,所述滚筒内部设置有螺纹。

优选地,所述滚筒II和滚筒III的轴线处均设置有输液管,所述输液管上均匀设置喷孔。

优选地,所述除水干燥设备为高压空气除水红外干燥设备,所述滚筒IV的轴线处设置有高压气管,所述高压气管上均匀设置喷孔,所述滚筒IV轴线末端设置有红外发射器,所述滚筒IV内壁与滚筒同轴设置阻拦网。

上述所述隐形正畸生产线自动洗消系统的洗消方法,包括如下步骤:

(1)人工将清洗对象排列在清洗槽的传送带上,主控模块通过控制模块I控制超声波清洗设备工作,将清洗对象用40~80kHz的高频超声波清洗3~5min,然后由主控模块控制传送带传输至所述滚筒II内;

(2)主控模块通过控制模块II控制二氧化氯喷淋清洗设备工作,滚筒II轴线处的输液管通过喷孔向清洗对象喷洒300mg~500mg/L的二氧化氯溶液,将清洗对象浸润于二氧化氯溶液中,浸泡时间10min,然后由滚筒II的排出口排出到传送带上,由主控模块控制传送带传输至所述滚筒III内;

(3)主控模块通过控制模块III控制蒸馏水清洗设备工作,滚筒III轴线处均的输液管通过喷孔向清洗对象喷洒蒸馏水,喷淋量0.2~0.4m3/min,清洗时间3~5min,然后由滚筒III的排出口排出到传送带上,由主控模块控制传送带传输至所述滚筒IV内;

(4)主控模块通过控制模块IV控制除水干燥设备工作,滚筒IV轴线处均的高压气管通过喷孔向清洗对象喷气,单孔喷气量2~4m3/min;除水时间3~5min,然后用波长200~400μm红外线干燥10~30s,然后由滚筒IV的排出口排出到收集箱内;

(5)当收集箱内的清洗对象到达一定数量时,将收集箱置于紫外线消毒柜中,主控模块通过控制模块V控制紫外线消毒柜工作,将环境温度设定为20~25℃,紫外线波长250~285nm,照射距离1m,照射时间30~60min。

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