[实用新型]一种天平加载头位姿检测设备有效
申请号: | 201621137058.1 | 申请日: | 2016-10-19 |
公开(公告)号: | CN206160939U | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 江孝国;李洪;杨兴林;王远;杨国君;龙全红;张小丁;李一丁;蒋薇;李伟峰 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院流体物理研究所 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G06T7/00;G06K9/32;G06K9/62 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙)51220 | 代理人: | 冯龙 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 天平 加载 头位姿 检测 设备 | ||
1.一种天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述设备包括:
指示光源、位置探测结构,所述指示光源安装在待检测天平加载头上表面, 所述位置探测结构包括:指示光斑照射靶面、光学成像系统、位置探测器,所述指示光斑照射靶面开设有中心孔,所述位置探测器的端面设有开口,所述开口中心线与所述中心孔中心线重合,所述位置探测器固定在所述指示光斑照射靶面的背面,所述光学成像系统位于所述指示光斑照射靶面的正面前方。
2.根据权利要求1所述的天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述光学成像系统包括:CCD相机和镜头。
3.根据权利要求1所述的天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述位置探测结构固定在安装支架上。
4.根据权利要求1所述的天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述设备具体包括4个位置探测结构,所述4个位置探测结构均匀分布在待检测天平加载头四周。
5.根据权利要求1所述的天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述设备还包括连接支架,所述连接支架一端与所述光学成像系统连接,所述连接支架另一端与所述位置探测器连接。
6.根据权利要求1所述的天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述位置探测器具体包括:外壳、光电探测器、光电探测器安装板、信号处理器,所述光电探测器、所述光电探测器安装板、所述信号处理器均安装在外壳内,所述光电探测器芯片安装在光电探测器安装板上,所述光电探测器与所述信号处理器连接,所述光电探测器中心线与所述开口中心线重合。
7.根据权利要求6所述的天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述光电探测器的测量面积大于中心孔的面积。
8.根据权利要求6所述的天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述光电探测器包括:面阵CCD、二维PSD。
9.根据权利要求6所述的天平加载头位姿检测设备,其特征在于,所述光电探测器安装板通过紧固螺钉固定在外壳上。
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