[实用新型]一种掩膜板承载装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种曝光机，具体涉及一种掩膜板。

背景技术

在曝光技术中，掩膜板是所使用的原始图形的载体，通过曝光过程，将这些图形投影到涂布了光刻胶的玻璃基板上。在日常生产过程中，掩膜板上有时会落上落尘，曝光机可以检测出并自动进行吹扫，但仍有部分落尘无法自动吹扫掉，需工程师查看曝光机的掩膜板落尘检查结果，并将掩膜板从设备中取出并搬运到专门的掩膜板清扫区，使用强光手电对曝光机检出的不良区域进行检查，并针对落尘点位手动进行清理。

人工清扫掩膜板的时候需打开托盘上盖或将掩膜板移到其他的承载装置上进行检查与清理，因落尘较小，往往很难寻找，且掩膜板暴露时间较久有时会掉落新的落尘。因寻找落尘困难，有可能造成清扫遗漏，送回曝光机内重新检查时发现掩膜板原位置仍存在落尘，需重新进行清扫，影响生产稼动。

发明内容

发明目的：本实用新型的目的在于针对现有技术的不足，提供一种掩膜板承载装置，能够根据曝光机的落尘检查结果在掩膜板上快速定位出落尘的位置并进行清扫，清理更加快速，效果好。

技术方案：一种掩膜板承载装置，在掩膜板托盘的底板上设置网格，所述网格的间距与曝光机落尘检查结果中的网格间距一致。

进一步，所述底板的周边设有激光发射头，激光发射头发出的光线坐标轴在底板上形成网格。

有益效果：本实用新型在掩膜板托盘的底板增加网格标尺，从透明的掩膜板上方可观察到底板上的网格，使该网格间距与曝光机输出的掩膜板落尘检查结果中的网格保持一致，可根据输出结果中落尘所在的网格坐标对照底板上的网格，直接在掩膜板上找出落尘的位置，改善了传统掩膜板承载装置底板落尘定位困难、清理遗漏及时间过长的问题，快速定位需清理的区域。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面对本实用新型技术方案进行详细说明，但是本实用新型的保护范围不局限于所述实施例。

实施例：一种掩膜板承载装置，如图1所示，以掩膜板金属托盘为例，在托盘的底板1上制作网格，分别沿底板1的长和宽方向在其周边加装多个X方向和Y方向的激光发射头，激光发射头发出的光线坐标轴在掩膜板上形成网格，该网格的间距与曝光机落尘检查结果的输出网格的间距一致，坐标轴与输出网格做相同标注。透明的掩膜板水平的搁置在承载装置的支架上，落尘检查时，曝光机落尘检查结果自动输出落尘在掩膜板上的位置，输出结果通过网格显示，工作人员可根据落尘在输出网格上的坐标在掩膜板的上方观察，对照底板1映射到掩膜板上的坐标轴网格，快速的找出落尘所在坐标位置并进行清理，方便快捷。