[实用新型]中子捕获治疗系统

权利要求书

1.一种中子捕获治疗系统，其特征在于：包括用于产生带电粒子束的加速器、经带电粒子束照射后产生中子射束的中子产生部、用于将经加速器加速后的带电粒子传输至中子产生部的真空管、射束整形体以及准直器，所述射束整形体包括缓速体及包覆于缓速体外周的反射体，所述缓速体将自中子产生部产生的中子减速至预设能谱，所述反射体将偏离的中子导回以提高预设能谱内的中子强度，所述准直器将中子产生部产生的中子进行集中，所述中子捕获治疗系统通过改变带电粒子束的能量使照射至中子产生部而产生的中子射束的能量发生改变。

2.根据权利要求1所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述中子捕获治疗系统设有能够向加速器注入微波的微波产生器，所述加速器根据注入的不同频率的微波改变输出的带电粒子束的能量，当产生的带电粒子束的能量为第一值时，所述带电粒子与中子产生部反应产生第一中子射束能量值，当产生的带电粒子束的能量为第二值时，所述带电粒子与中子产生部反应产生第二中子射束能量值，其中所述第一值低于第二值，第一中子射束能量值低于第二中子射束能量值。

3.根据权利要求1所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述中子捕获治疗系统产生的带电粒子束的能量通过加速器端电场强度的改变而改变。

4.根据权利要求3所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述真空管或/和中子产生部外设有能够产生电场并且通过产生的电场使带电粒子束在照射至中子产生部前加速或者减速的电场供应装置。

5.根据权利要求1所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述中子捕获治疗系统还具有能够对所述带电粒子束的能量进行调节的射束能谱调节件，当所述射束能谱调节件位于真空管中并且位于所述中子产生部前方时，所述带电粒子束照射至射束能谱调节件进行能量调节后再照射至中子产生部而产生中子射束。

6.根据权利要求5所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述真空管内设有容置部，所述射束能谱调节件收容于所述容置部并且连接有能够使射束能谱调节件运动的驱动机构，当所述驱动机构控制射束能谱调节件运动至中子产生部前方时，所述带电粒子照射至射束能谱调节件后进行能量调节后再照射至中子产生部；当所述驱动机构控制所述射束能谱调节件收容于容置部而不位于中子产生部前方时，所述带电粒子束直接照射于所述中子产生部。

7.根据权利要求6所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述射束能谱调节件具有多个，不同数量的射束能谱调节件对带电粒子束的能量调节作用不同，所述驱动机构驱动每个射束能谱调节件分别运动以对带电粒子束的能量进行调节。

8.根据权利要求6所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述每个射束能谱调节件采用不同的材料制造，不同材料的射束能谱调节件对带电粒子束的能量调节效果不同。

9.根据权利要求1所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述中子产生部连接于一供电装置，通过所述供电装置对所述中子产生部通电，所述带电粒子束的射束能谱在带电粒子照射至通电的中子产生部后发生改变。

10.根据权利要求1所述的中子捕获治疗系统，其特征在于：所述中子捕获治疗系统通过改变带电粒子束的射束能谱间接改变中子射束的能谱，进而改变中子捕获治疗系统的中子深度剂量分布。