[实用新型]一种机械式键盘的双色键帽

说明书

技术领域：

本实用新型涉及计算机外设技术领域，尤其是涉及一种机械式键盘的双色键帽。

背景技术：

目前的游戏机械式键盘普遍要求具有背光字符，因此早期使用喷漆镭雕的键帽；后来为了降低成本，故开始使用双色键帽。

但双色键帽因制作技术不足之原因，将具有封闭环的字符进行断开处理；虽然解决注塑技术的问题，但断开的闭环影响美观。因此有另一种架桥式的字符如图一所示，就是在靠近字符空隙11处以及填充部12与帽盖10相对应处的下方具有往下垂直延伸的第一流道胶体和第二流道胶体14，第一流道胶体13和第二流道胶体14的底部以水平流道15联通。

如此的架桥式设计，虽然看起来表面没有断开，但是光照之下仍有阴影断开，因此必须另行设计，以解决上述问题。

实用新型内容：

本实用新型的目的就在于针对现有技术存在的不足之处而提供一种机械式键盘的双色键帽，其具有美观的特点，而且不必使用复杂的针点式进胶，因此降低生产成本。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种机械式键盘的双色键帽，以双色注塑机经过二次注塑成型而得，具有不透光的帽盖以及透光材质的胶体部；不透光的帽盖具有镂空的字符空隙，透光材质的胶体部具有浮字部以填塞字符空隙，部分键帽具有闭环式字符，闭环式字符中间具有与帽盖相同材质的填充部，帽盖在靠近字符空隙处的下方以及填充部与帽盖相对应处的下方具有残留且垂直往下延伸的第一流道胶体和第二流道胶体，第一流道胶体和第二流道胶体的底部分别具有第一断面和第二断面，闭环式字符的下方也具有第二断面；

第一断面、第二断面以及第三断面区域的平台高度与透光材质的胶体部的底面近乎平齐，或是形成浅槽，或是形成台阶；第一断面、第二断面以及第三断面为利用铣刀去除部分或全部的第一流道胶体底部和第二流道胶体底部，以及全部的闭环式字符底部的水平流道而得。

作为上述技术方案的优选，部分第一流道胶体与第二流道胶体的底部外侧未经铣刀处理，第一断面、第二断面以及第三断面之间的区域小于第一流道胶体与第二流道胶体两个底部外侧之间的区域。

作为上述技术方案的优选，第一断面、第二断面以及第三断面为利用铣刀去除闭环式字符底部的水平流道而得，且表面具有残留铣刀纹。

作为上述技术方案的优选，透光材质的胶体部在位于第一断面、第二断面以及第三断面临近区间具有铣刀形成的浅槽。

作为上述技术方案的优选，透光材质的胶体部在位于第一断面、第二断面以及第三断面临近区间具有矮凸台。

作为上述技术方案的优选，因加工精度之因素，同一组键盘的不同键帽，部分具有浅槽，而其余部分具有矮凸台。

作为上述技术方案的优选，第一断面、第二断面以及第三断面为水平状。

作为上述技术方案的优选，第一断面、第二断面以及第三断面为斜凹面状。

本实用新型的有益效果在于：其具有美观的特点，而且不必使用复杂的针点式进胶，因此降低生产成本。

附图说明：

下面结合附图对本实用新型做进一步的说明：

图1为本实用新型实施例一以铣刀加工前的纵向剖面示意图；

图2为本实用新型实施例一以铣刀加工前的纵向剖面示意图；

图3为本实用新型实施例二以铣刀加工后的纵向剖面示意图；

图4为本实用新型实施例三以铣刀加工前的纵向剖面示意图；

图5为本实用新型实施例三以铣刀加工后的纵向剖面示意图；

图6为本实用新型实施四以铣刀加工前的纵向剖面示意图；

图7为本实用新型实施四以铣刀加工后的纵向剖面示意图；

图8为本实用新型实施五以铣刀加工前的纵向剖面示意图；

图9为本实用新型实施五以铣刀加工后的纵向剖面示意图

图10为本实用新型实施例六的结构示意图。

具体实施方式：